| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 1 绪论 | 第9-20页 |
| ·问题的提出及研究意义 | 第9-10页 |
| ·CuAlO_2薄膜概述 | 第10-19页 |
| ·CuAlO_2薄膜研究历史的简要回顾 | 第10-11页 |
| ·CuAlO_2和CAO 的晶体结构和能带结构 | 第11-13页 |
| ·CuAlO_2薄膜材料特性 | 第13-14页 |
| ·CuAlO_2薄膜制备 | 第14-16页 |
| ·CuAlO_2薄膜的应用前景 | 第16-19页 |
| ·本文的研究内容及创新点 | 第19-20页 |
| 2 CAO 薄膜的制备以及测试方法 | 第20-29页 |
| ·直流磁控溅射方法 | 第20-21页 |
| ·引言 | 第20页 |
| ·直流磁控溅射基本原理 | 第20-21页 |
| ·实验仪器以及实验流程 | 第21-22页 |
| ·实验仪器 | 第21页 |
| ·实验流程 | 第21-22页 |
| ·CAO 薄膜的实验条件 | 第22-23页 |
| ·CAO 薄膜的退火处理 | 第23-24页 |
| ·CAO 薄膜的性能测试 | 第24-29页 |
| ·晶体结构的表征方法 | 第24-26页 |
| ·表面形貌的测试方法 | 第26页 |
| ·薄膜的成分及各元素化学态的测试 | 第26-27页 |
| ·CAO 薄膜光谱测试 | 第27页 |
| ·薄膜厚度以及Hall 效应的测量 | 第27-29页 |
| 3 CAO 薄膜的组织结构 | 第29-41页 |
| ·CAO 薄膜的结构特性 | 第29-33页 |
| ·XRD 分析 | 第29页 |
| ·退火处理对薄膜结构的影响 | 第29-31页 |
| ·氧氩比对薄膜结构的影响 | 第31-33页 |
| ·CAO 薄膜的表面形貌 | 第33-35页 |
| ·CAO 薄膜的成分及化学态 | 第35-40页 |
| ·未刻蚀前的XPS 分析 | 第35-37页 |
| ·Ar~+刻蚀后的XPS 分析 | 第37-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 4 CAO 薄膜的光学性质 | 第41-54页 |
| ·CAO 薄膜的紫外可见透射光谱 | 第41-51页 |
| ·氧气浓度对透射光谱的影响 | 第42-43页 |
| ·工作压强对透射光谱的影响 | 第43页 |
| ·靶距对透射光谱的影响 | 第43-44页 |
| ·溅射时间对透射光谱的影响 | 第44-45页 |
| ·基片温度对透射光谱的影响 | 第45-46页 |
| ·退火处理对透射光谱的影响 | 第46-49页 |
| ·Urbach 吸收带尾形成机理 | 第49-51页 |
| ·红外反射光谱 | 第51页 |
| ·薄膜折射率和厚度的理论计算 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 5 CAO 薄膜的电学性质 | 第54-59页 |
| ·CAO 薄膜的HALL 效应 | 第54-58页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·退火处理对电学性质的影响 | 第54-56页 |
| ·氧氩比对电学性质的影响 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 6 结论与展望 | 第59-61页 |
| ·结论 | 第59页 |
| ·后续工作的展望 | 第59-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-69页 |
| 附录 | 第69-70页 |
| 附录A 作者在攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第69-70页 |
| 附录B 作者在攻读硕士学位期间参加的科研项目及得奖情况 | 第70页 |