纳米TiO2薄膜的低温等离子体制备及其光学性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-23页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·薄膜材料的特点和应用 | 第9-10页 |
| ·TiO_2 的物理化学性质 | 第10-13页 |
| ·TiO_2 薄膜应用领域与进展 | 第13-15页 |
| ·TiO_2 薄膜的制备技术 | 第15-22页 |
| ·本文的主要工作 | 第22-23页 |
| 2 等离子体化学气相沉积的实验研究 | 第23-38页 |
| ·引言 | 第23-25页 |
| ·等离子体化学气气相沉积薄膜的反应机理 | 第25-27页 |
| ·等离子体化学气气相沉积装置结构 | 第27-33页 |
| ·等离子体薄膜的制备研究 | 第33-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 3 TiO_2 薄膜实验、测试和表征仪器 | 第38-43页 |
| ·实验仪器 | 第38页 |
| ·测试和表征仪器 | 第38-43页 |
| 4 工艺参数与薄膜特性之间的关系 | 第43-68页 |
| ·引言 | 第43-44页 |
| ·工艺参数对沉积速率速率影响 | 第44-51页 |
| ·沉积时间对硅表面温度的影响 | 第51页 |
| ·工艺参数对薄膜表面形貌影响 | 第51-55页 |
| ·工艺参数对薄膜晶体结构的影响 | 第55-61页 |
| ·工艺参数对薄膜光学性能的影响 | 第61-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 5 结论与展望 | 第68-71页 |
| ·本论文完成的主要工作 | 第68页 |
| ·主要结论 | 第68-69页 |
| ·存在的问题与下一步工作设想 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-77页 |
| 附录1 作者在攻读硕士期间发表的学术论文 | 第77页 |
