| 中文摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-30页 |
| ·耦合“催化-分离”反应技术概述 | 第9-11页 |
| ·概述 | 第9页 |
| ·特点 | 第9-10页 |
| ·研究现状 | 第10-11页 |
| ·发展前景 | 第11页 |
| ·膜反应器的研究现状和进展 | 第11-13页 |
| ·膜反应器的分类 | 第11-12页 |
| ·膜反应器工业化的难点 | 第12-13页 |
| ·膜反应器材质的研究现状和进展 | 第13-22页 |
| ·无机膜 | 第13-17页 |
| ·杂化膜 | 第17-22页 |
| ·二氧化碳氧化低碳链烷烃的研究进展 | 第22-28页 |
| ·研究意义 | 第22-23页 |
| ·研究现状 | 第23-24页 |
| ·研究难点 | 第24-28页 |
| ·本研究的目标与构思 | 第28-30页 |
| ·研究的目标和意义 | 第28页 |
| ·研究内容 | 第28-29页 |
| ·研究的特色和创新点 | 第29-30页 |
| 第二章 催化剂研究实验方法 | 第30-38页 |
| ·催化剂的设计 | 第30页 |
| ·催化剂制备方法 | 第30-32页 |
| ·实验原料 | 第30页 |
| ·VSiO 表面复合物载体的制备 | 第30-31页 |
| ·Pd/VSiO 催化剂的制备 | 第31页 |
| ·Pd/MgO/VSiO 催化剂的制备 | 第31-32页 |
| ·催化剂物化性能表征 | 第32-35页 |
| ·比表面积测定 | 第32页 |
| ·X射线衍射 | 第32页 |
| ·X 射线光电子能谱 | 第32页 |
| ·透射电镜 | 第32页 |
| ·程序升温还原 | 第32-33页 |
| ·程序升温脱附-质谱 | 第33-34页 |
| ·红外光谱 | 第34-35页 |
| ·催化剂反应性能评价 | 第35-38页 |
| 第三章 Pd/VSiO 催化剂的研究 | 第38-49页 |
| ·催化剂的表面构造 | 第38-40页 |
| ·XRD 和BET 测定结果 | 第38-39页 |
| ·TEM 测定结果 | 第39页 |
| ·XPS 测定结果 | 第39-40页 |
| ·催化剂的还原性能 | 第40-41页 |
| ·催化剂的化学吸附性能 | 第41-44页 |
| ·i-C_4H_(10) 的化学吸附 | 第41-43页 |
| ·CO_2 的化学吸附 | 第43-44页 |
| ·催化剂的反应性能 | 第44-47页 |
| ·温度对催化剂性能的影响 | 第44-45页 |
| ·空速对催化剂性能的影响 | 第45-46页 |
| ·反应物气体组成对催化剂性能的影响 | 第46-47页 |
| ·催化剂反应机理探讨 | 第47-48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 第四章 Pd/MgO/VSiO 催化剂的研究 | 第49-58页 |
| ·催化剂的表面构造 | 第49-50页 |
| ·催化剂的还原性能 | 第50页 |
| ·催化剂的化学吸附性能 | 第50-55页 |
| ·i-C_4H_(10) 的化学吸附 | 第50-53页 |
| ·CO_2 的化学吸附 | 第53-55页 |
| ·催化剂的反应性能 | 第55-56页 |
| ·催化剂反应机理探讨 | 第56-57页 |
| ·小结 | 第57-58页 |
| 第五章 膜反应器研究实验方法 | 第58-67页 |
| ·膜反应器的设计 | 第58页 |
| ·膜反应器的制备 | 第58-64页 |
| ·实验原料 | 第58-59页 |
| ·硅藻土-莫来石支撑体的制备 | 第59-60页 |
| ·TiO_2 过渡层的制备 | 第60-61页 |
| ·顶层分离膜的制备 | 第61-64页 |
| ·膜反应器物化性能表征 | 第64-65页 |
| ·热性能分析 | 第64页 |
| ·红外光谱分析 | 第64页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第64-65页 |
| ·表观形貌观测 | 第65页 |
| ·微观形态测定 | 第65页 |
| ·孔径分布测定 | 第65页 |
| ·膜反应器分离性能评价 | 第65-67页 |
| 第六章 PI-SiO_2/TiO_2/K-M膜反应器的研究 | 第67-75页 |
| ·PI-SiO_2 杂化膜制备过程分析 | 第67-69页 |
| ·加料量与加料次序的影响 | 第67页 |
| ·温度的影响 | 第67页 |
| ·硅溶胶制备过程和影响因素 | 第67-69页 |
| ·PI-SiO_2 杂化膜的物化性能 | 第69-73页 |
| ·红外光谱 | 第69-70页 |
| ·热稳定性 | 第70-71页 |
| ·表观形貌 | 第71页 |
| ·微观形态 | 第71-72页 |
| ·膜的孔径分布 | 第72-73页 |
| ·PI-SiO_2/TiO_2/K-M膜反应器的分离性能 | 第73页 |
| ·小结 | 第73-75页 |
| 第七章 PI-TiO_2/TiO_2/K-M膜反应器的研究 | 第75-82页 |
| ·TiO_2 溶胶制备过程分析 | 第75-76页 |
| ·PI-TiO_2 杂化膜的物化性能 | 第76-80页 |
| ·红外光谱 | 第76-77页 |
| ·热稳定性 | 第77-78页 |
| ·表观形貌 | 第78页 |
| ·微观形态 | 第78-79页 |
| ·膜的孔径分布 | 第79-80页 |
| ·PI- TiO_2/TiO_2/K-M膜反应器的分离性能 | 第80页 |
| ·小结 | 第80-82页 |
| 第八章 PI-SnO_2/TiO_2/K-M 膜反应器的研究 | 第82-91页 |
| ·SnO_2 溶胶制备过程分析 | 第82-83页 |
| ·PI-SnO_2 杂化膜的物化性能 | 第83-88页 |
| ·红外光谱 | 第83页 |
| ·X 射线光电子能谱 | 第83-85页 |
| ·热稳定性 | 第85-86页 |
| ·表观形貌 | 第86-87页 |
| ·微观形态 | 第87-88页 |
| ·膜的孔径分布 | 第88页 |
| ·PI-SnO_2/TiO_2/K-M膜反应器的分离性能 | 第88-89页 |
| ·小结 | 第89-91页 |
| 第九章 耦合“催化-分离”反应规律的研究 | 第91-102页 |
| ·耦合“催化-分离”实验研究方法 | 第91-92页 |
| ·耦合“催化-分离”反应工艺流程 | 第91页 |
| ·膜反应器构造 | 第91-92页 |
| ·反应原料 | 第92页 |
| ·产物分析 | 第92页 |
| ·影响耦合“催化-分离”反应效果的基本因素 | 第92-95页 |
| ·耦合“催化-分离”实验研究结果 | 第95-100页 |
| ·反应温度对耦合“催化-分离”反应性能的影响 | 第95-96页 |
| ·反应空速对耦合“催化-分离”反应性能的影响 | 第96-98页 |
| ·原料配比对耦合“催化-分离”反应性能的影响 | 第98-99页 |
| ·吹扫气流速对耦合“催化-分离”反应性能的影响 | 第99-100页 |
| ·小结 | 第100-102页 |
| 第十章 总结 | 第102-104页 |
| 参考文献 | 第104-114页 |
| 作者在攻读博士期间发表的论文 | 第114-115页 |
| 致谢 | 第115页 |
