航天用太阳能电池阵互连片金属材料改性研究
中文摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-9页 |
第一章 绪论 | 第9-27页 |
·引言 | 第9-11页 |
·空间技术概论 | 第9页 |
·航天用太阳能电池阵及互连片材料 | 第9-11页 |
·低空间轨道及其环境效应对空间材料的影响 | 第11-16页 |
·原子氧效应 | 第13-15页 |
·紫外线辐射效应 | 第15页 |
·热循环效应 | 第15-16页 |
·空间互连片材料的表面改性与防护 | 第16-19页 |
·金属元素的电镀 | 第16-17页 |
·防护涂层 | 第17-19页 |
·离子注入技术 | 第19-25页 |
·离子注入技术简介 | 第19页 |
·离子注入表面改性技术的特点 | 第19页 |
·离子注入原理 | 第19-22页 |
·离子注入技术在航天材料领域的应用 | 第22-25页 |
·改善材料表面强度 | 第22-23页 |
·提高抗腐蚀性能 | 第23页 |
·提高耐磨性能 | 第23-24页 |
·改善抗氧化性能 | 第24页 |
·延长抗疲劳寿命 | 第24-25页 |
·课题背景、研究意义、研究内容及创新点 | 第25-27页 |
·课题背景及研究意义 | 第25-26页 |
·课题研究内容 | 第26页 |
·课题创新点 | 第26-27页 |
第二章 离子注入钼箔表面银膜的制备与表征 | 第27-42页 |
·引言 | 第27页 |
·实验过程及方法 | 第27-34页 |
·实验材料 | 第27-28页 |
·钼箔表面的Ag 离子注入 | 第28-33页 |
·MEVVA 源离子注入机 | 第28-29页 |
·TRIM 程序简介 | 第29-30页 |
·相关参数及饱和注入剂量的计算 | 第30-33页 |
·试样的高温退火 | 第33-34页 |
·分析测试方法 | 第34页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第34页 |
·X 射线衍射(GXRD) | 第34页 |
·X 射线光电子能谱(XPS) | 第34页 |
·实验结果与讨论 | 第34-41页 |
·TRIM 的模拟计算 | 第34-36页 |
·实验工艺参数的确定 | 第36页 |
·离子注入对纯钼箔表面形貌的影响 | 第36-37页 |
·离子注入元素含量分析 | 第37-40页 |
·离子注入后表面GXRD 分析 | 第40-41页 |
·本章小结 | 第41-42页 |
第三章 注银钼箔电镀银的实现及性能研究 | 第42-69页 |
·引言 | 第42页 |
·实验过程及方法 | 第42-52页 |
·实验材料 | 第42-43页 |
·电镀工艺过程与条件 | 第43-46页 |
·镀液性能实验 | 第46-47页 |
·镀液稳定性实验 | 第46页 |
·均镀能力的测定 | 第46-47页 |
·沉积速度的测定 | 第47页 |
·镀层性能实验 | 第47-52页 |
·能谱分析 | 第47页 |
·镀层表观形貌观测 | 第47页 |
·镀层附着强度的测试 | 第47-48页 |
·钝化实验方案 | 第48-49页 |
·抗硫化钠腐蚀实验 | 第49-50页 |
·钼箔镀银层钝化前后导电性的测试 | 第50-51页 |
·钼箔镀银层钝化前后可焊性的测试 | 第51-52页 |
·实验结果与讨论 | 第52-68页 |
·电镀液的性能 | 第52页 |
·电镀液的稳定性 | 第52页 |
·均镀能力 | 第52页 |
·沉积速度 | 第52页 |
·镀层性能分析 | 第52-68页 |
·能谱分析 | 第52-53页 |
·钼箔镀银层的形貌观察 | 第53-55页 |
·镀银钼箔结合力的表征 | 第55-56页 |
·钝化后抗1% Na_2S 腐蚀实验结果与分析 | 第56-64页 |
·石蜡溶液钝化后抗1% Na_2S 腐蚀实验 | 第64-65页 |
·钼箔镀银层钝化前后导电性的表征 | 第65-68页 |
·钼箔镀银层钝化前后可焊性的表征 | 第68页 |
·本章小结 | 第68-69页 |
第四章 银箔注铝表面结构及抗原子氧效应的研究 | 第69-79页 |
·引言 | 第69页 |
·实验过程 | 第69-71页 |
·实验材料 | 第69页 |
·银箔表面的Al 离子注入 | 第69-71页 |
·注入设备及原理 | 第69-70页 |
·电极制备 | 第70页 |
·相关参数及饱和注入剂量的计算 | 第70-71页 |
·试样的退火处理 | 第71页 |
·分析测试方法 | 第71页 |
·实验结果与讨论 | 第71-78页 |
·TRIM2003 模拟计算结果 | 第71-73页 |
·实验工艺参数的确定 | 第73页 |
·离子注入对材料表面形貌的影响 | 第73-75页 |
·离子注入元素含量XPS 分析 | 第75-77页 |
·离子注入后表面GXRD 分析 | 第77-78页 |
·本章小结 | 第78-79页 |
第五章 全文总结 | 第79-81页 |
参考文献 | 第81-88页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第88-89页 |
致谢 | 第89页 |