| 第一章 绪论 | 第1-23页 |
| ·平面薄膜电感的发展历史及现状 | 第9-10页 |
| ·平面薄膜电感简介 | 第10-14页 |
| ·对薄膜电感磁性层介质的要求 | 第14-17页 |
| ·T-M-O系薄膜举例 | 第17-19页 |
| ·薄膜平面电感器的应用 | 第19-21页 |
| 参考文献 | 第21-23页 |
| 第二章 薄膜的制备及其性能的表征 | 第23-35页 |
| ·薄膜的制备 | 第23-26页 |
| ·制备方法 | 第23-24页 |
| ·溅射装置 | 第24-25页 |
| ·基片的选择与清洗 | 第25-26页 |
| ·溅射用靶 | 第26页 |
| ·真空热处理 | 第26-27页 |
| ·薄膜性能的表征 | 第27-34页 |
| ·薄膜膜厚的测量 | 第27-28页 |
| ·薄膜成分的分析 | 第28-29页 |
| ·薄膜晶体结构的分析 | 第29-30页 |
| ·薄膜磁学性能的测量 | 第30-34页 |
| 参考文献 | 第34-35页 |
| 第三章 Fe-Al-O薄膜的制备 | 第35-43页 |
| ·Fe-O及Fe-M-O薄膜 | 第35-36页 |
| ·Fe-Al-O薄膜的制备、结构及磁性 | 第36-43页 |
| ·薄膜的制备 | 第36-37页 |
| ·薄膜的结构 | 第37-39页 |
| ·薄膜的磁性 | 第39-43页 |
| 第四章 实验条件对 Fe-Al-O薄膜结构和磁性的影响 | 第43-56页 |
| ·溅射气压的影响 | 第43-46页 |
| ·溅射功率的影响 | 第46-49页 |
| ·膜厚的影响 | 第49-52页 |
| ·氧分压的影响 | 第52页 |
| ·热处理温度的影响 | 第52-56页 |
| 参考文献 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |