| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-10页 |
| ·研究的背景和意义 | 第7-9页 |
| ·本研究的主要内容 | 第9-10页 |
| 第二章 实验设备及检测设备 | 第10-13页 |
| ·实验仪器 | 第10-11页 |
| ·检测仪器 | 第11-13页 |
| 第三章 薄膜的制备方法概述 | 第13-20页 |
| ·电弧离子镀原理概述 | 第13-14页 |
| ·磁控溅射的原理概述 | 第14-16页 |
| ·溅射用 TiO_2靶材的制备 | 第16-18页 |
| ·基片的清洗 | 第18-20页 |
| 第四章 射频溅射法和电弧离子镀法制备纳米 TiO_2薄膜及对比分析 | 第20-31页 |
| ·两种方法制备纳米 TiO_2薄膜 | 第20页 |
| ·薄膜的表征 | 第20-21页 |
| ·薄膜晶体结构对比 | 第21-22页 |
| ·光学性质对比 | 第22页 |
| ·表面形貌对比 | 第22-24页 |
| ·亲水性能对比 | 第24-27页 |
| ·光催化性能对比 | 第27-30页 |
| ·本章结论 | 第30-31页 |
| 第五章 磁控溅射制备纳米 TiO_2薄膜热处理工艺研究 | 第31-37页 |
| ·退火温度对薄膜结构和性能的影响 | 第31-34页 |
| ·磁控溅射氧分压对薄膜性能的影响 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第六章 碳掺杂锐钛矿 TiO_2薄膜的制备和研究 | 第37-50页 |
| ·纳米薄膜光催化的优点 | 第37页 |
| ·纳米 TiO_2薄膜广泛应用的技术瓶颈 | 第37-38页 |
| ·碳掺杂改性研究的背景和意义 | 第38页 |
| ·锐钛矿 TiO_(2-x)C_x薄膜的制备 | 第38-39页 |
| ·锐钛矿 TiO_(2-x)C_x薄膜的表征 | 第39页 |
| ·锐钛矿 TiO_(2-x)C_x薄膜的性能研究 | 第39-49页 |
| ·本章结论 | 第49-50页 |
| 第七章 结论 | 第50-51页 |
| 第八章 己做的探索和有待进行的探索 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-55页 |
| 研究生期间发表的文章 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |