摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-10页 |
第1章 绪论 | 第10-18页 |
·前言 | 第10页 |
·抗菌材料的分类 | 第10-12页 |
·有机抗菌剂 | 第10-11页 |
·无机抗菌剂 | 第11-12页 |
·无机抗菌剂与有机抗菌剂的性能比较 | 第12页 |
·二氧化钛光催化杀菌 | 第12-16页 |
·二氧化钛的光催化抗菌原理 | 第13-14页 |
·二氧化钛在抗菌方面的研究进展 | 第14-16页 |
·纳米二氧化钛粉体和薄膜的制备 | 第16页 |
·课题的提出和选题的目的和意义 | 第16-18页 |
第2章 酸性体系中掺杂TIO_2的制备和表征 | 第18-34页 |
·实验原理 | 第18-19页 |
·水解反应 | 第18页 |
·缩聚反应 | 第18页 |
·钛酸丁酯的络合反应 | 第18-19页 |
·实验参数的确定 | 第19-21页 |
·醇盐的选择 | 第19-20页 |
·溶剂的选择 | 第20页 |
·催化剂的选择 | 第20-21页 |
·加水量 | 第21页 |
·水解温度 | 第21页 |
·主要化学试剂与实验设备 | 第21-22页 |
·主要化学试剂 | 第21-22页 |
·实验设备 | 第22页 |
·制备过程与工艺路线 | 第22-23页 |
·溶胶的制备 | 第22页 |
·薄膜的制备 | 第22-23页 |
·粉体的制备 | 第23页 |
·表征方法 | 第23-24页 |
·实验结果与讨论 | 第24-32页 |
·水加入量对溶胶的影响 | 第24-25页 |
·其他离子加入量对溶胶的影响 | 第25-26页 |
·反应温度对溶胶的影响 | 第26页 |
·TiO_2的TG-DTA分析 | 第26-28页 |
·TiO_2的XRD分析 | 第28-32页 |
·本章小结 | 第32-34页 |
第3章 光催化降解甲基橙及其影响因素研究 | 第34-45页 |
·基本原理 | 第34页 |
·光催化氧化降解甲基橙的试验研究 | 第34-36页 |
·主要试验药品与主要仪器 | 第34-35页 |
·实验方法 | 第35页 |
·分析方法 | 第35-36页 |
·结果与讨论 | 第36-44页 |
·甲基橙吸收标准曲线的绘制 | 第36-37页 |
·标准溶液初始浓度对光催化性能测试的影响 | 第37-38页 |
·甲基橙溶液初始pH值对降解率的影响 | 第38-39页 |
·溶胶中H_2O的添加量对降解率的影响 | 第39-40页 |
·溶胶中不同SAA加入量对光催化性能的影响 | 第40-41页 |
·掺杂离子对降解率的影响 | 第41-44页 |
·本章小结 | 第44-45页 |
第4章 材料的抗菌性能测试 | 第45-56页 |
·抑菌圈法 | 第45-46页 |
·实验器材、材料及菌株 | 第45页 |
·实验过程 | 第45-46页 |
·悬液浸渍培养法 | 第46-48页 |
·实验器材、材料及菌株 | 第47页 |
·实验过程 | 第47-48页 |
·实验结果与讨论 | 第48-55页 |
·抑菌圈法 | 第48-52页 |
·悬液浸渍培养法 | 第52-53页 |
·抗菌机理探讨 | 第53-55页 |
·本章小结 | 第55-56页 |
第5章 碱性体系中掺银TIO_2制备和表征的初步探讨 | 第56-62页 |
·实验原理 | 第56页 |
·制备过程与工艺路线 | 第56-57页 |
·溶胶的制备 | 第56页 |
·薄膜的制备 | 第56-57页 |
·主要化学试剂与实验设备 | 第57页 |
·实验测试方法 | 第57页 |
·结果与讨论 | 第57-61页 |
·掺银量与溶胶稳定性的关系 | 第57页 |
·TiO_2的TG-DTA曲线 | 第57-58页 |
·碱性条件下TiO_2的XRD曲线 | 第58-59页 |
·碱性条件下掺银TiO_2的紫外-可见光谱分析 | 第59页 |
·光催化性能测试 | 第59-60页 |
·抗菌性能测试 | 第60-61页 |
·本章小结 | 第61-62页 |
第6章 结论 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-66页 |
致谢 | 第66页 |