ECR等离子体辅助脉冲激光沉积薄膜的若干应用
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-16页 |
| ·脉冲激光烧蚀和脉冲激光沉积 | 第9-12页 |
| ·脉冲激光烧蚀(PLA) | 第9-10页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第10-11页 |
| ·脉冲激光沉积的一般特点 | 第11-12页 |
| ·脉冲激光沉积的发展前景 | 第12页 |
| ·碳膜和DLC薄膜 | 第12-14页 |
| ·碳材料 | 第12-13页 |
| ·金刚石和类金刚石碳(DLC)薄膜,碳氮薄膜 | 第13-14页 |
| ·氧化锌 | 第14页 |
| ·硅基发光材料 | 第14-15页 |
| ·本文的研究内容和安排 | 第15-16页 |
| 第二章 ECR等离子体辅助脉冲激光沉积 | 第16-21页 |
| ·气体放电技术 | 第16-17页 |
| ·ECR微波放电和ECR等离子体 | 第17-19页 |
| ·ECR等离子体辅助脉冲激光沉积 | 第19-20页 |
| ·ECR等离子体辅助脉冲激光沉积装置 | 第20-21页 |
| 第三章 ECR等离子体辅助脉冲激光沉积碳基薄膜 | 第21-38页 |
| ·DLC薄膜和CNx薄膜 | 第21-22页 |
| ·DLC薄膜 | 第21-22页 |
| ·碳氮膜的研究背景 | 第22页 |
| ·DLC薄膜的制备 | 第22页 |
| ·DLC薄膜的表征和结果讨论 | 第22-33页 |
| ·偏压的影响 | 第23-27页 |
| ·ECR氩等离子体的影响 | 第27-33页 |
| ·CNx薄膜的制备,结果和表征 | 第33-36页 |
| ·CNx薄膜的制备 | 第33页 |
| ·结果和表征 | 第33-36页 |
| ·ECR氩等离子体和ECR氮等离子体的作用 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 ZNO薄膜的制备和表征 | 第38-43页 |
| ·ZNO薄膜的研究背景 | 第38-39页 |
| ·ZnO薄膜的晶格结构 | 第38页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第38-39页 |
| ·ZnO薄膜的研究现状 | 第39页 |
| ·ZNO薄膜的制备 | 第39页 |
| ·ZNO薄膜的表征 | 第39-42页 |
| ·透射谱 | 第40-41页 |
| ·ZnO薄膜的AFM图 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第五章 纳米硅镶嵌氧化硅薄膜的制备尝试 | 第43-48页 |
| ·实现硅基发光的几种途径 | 第43-44页 |
| ·多孔硅发光 | 第43页 |
| ·纳米硅镶嵌氧化硅的发光 | 第43-44页 |
| ·掺Er硅的发光 | 第44页 |
| ·纳米硅镶嵌氧化硅薄膜的制备设想 | 第44-45页 |
| ·氧化硅薄膜退火处理和光致发光测量 | 第45-47页 |
| ·在实验上的建议 | 第47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第六章 总结与展望 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-52页 |
| 研究生期间发表的论文 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
