摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-12页 |
第一章 绪论 | 第12-26页 |
·化学镀的研究历史 | 第12页 |
·化学镀发展研究现状 | 第12-22页 |
·化学镀Ni-P发展研究现状 | 第12页 |
·化学镀Ni-B发展研究现状 | 第12-13页 |
·化学镀Ni-B-P发展研究现状 | 第13页 |
·化学复合镀的发展研究现状 | 第13-22页 |
·化学镀镀镍的机理 | 第22-24页 |
·以次亚磷酸盐为还原剂的镍磷沉积原理 | 第23页 |
·以硼氢化钠为还原剂的镍硼沉积原理 | 第23-24页 |
·镍磷和镍硼沉积统一原理 | 第24页 |
·本课题的研究背景、目的和方法 | 第24-26页 |
·本课题的研究背景 | 第24-25页 |
·本课题的研究内容和目的 | 第25页 |
·本课题的研究方法 | 第25-26页 |
第二章 实验方法 | 第26-30页 |
·实验材料 | 第26页 |
·化学镀镀液的配制 | 第26-27页 |
·镀液的配制过程 | 第26页 |
·镀液的配制过程中的注意事项 | 第26-27页 |
·工艺流程 | 第27-28页 |
·化学镀Ni-P工艺流程 | 第27页 |
·化学镀Ni-B工艺流程 | 第27页 |
·Ni-P/Ni-B镀层工艺流程 | 第27-28页 |
·镀层的性能测定 | 第28-30页 |
第三章 化学镀Ni-B的制备及其性能研究 | 第30-49页 |
·化学镀Ni-B的制备 | 第30-31页 |
·镀液的组成及作用 | 第30-31页 |
·化学镀Ni-B镀层工艺研究 | 第31页 |
·Ni-B镀层正交实验的结果与分析 | 第31-36页 |
·正交实验Ni-B镀层的镀速研究 | 第31-32页 |
·正交实验Ni-B镀层结构研究 | 第32-33页 |
·正交实验Ni-B镀层的形貌研究 | 第33-35页 |
·正交实验Ni-B镀层的显微硬度研究 | 第35-36页 |
·化学镀Ni-B正交实验的优化 | 第36-41页 |
·正交4和正交9优化方案镀层制备的工艺配方 | 第36-37页 |
·正交实验4和9优化方案制备镀层的性能研究 | 第37-41页 |
·乙酸钠对正交实验4优化方案镀层性能的影响研究 | 第41-47页 |
·加入乙酸钠镀层的工艺参数 | 第42页 |
·加入乙酸钠对沉积速率的影响 | 第42-43页 |
·加入乙酸钠对镀层晶体结构的影响 | 第43页 |
·加入乙酸钠对镀层表面形貌的影响 | 第43-45页 |
·加入乙酸钠对显微硬度的影响 | 第45页 |
·加入乙酸钠对耐磨性的影响 | 第45-47页 |
·加入乙酸钠对镀层耐蚀性的影响 | 第47页 |
·本章小结 | 第47-49页 |
第四章 Ni-P/Ni-B镀层制备及其性能研究 | 第49-75页 |
·化学镀Ni-P/Ni-B镀层制备工艺研究 | 第49-50页 |
·化学镀Ni-P/Ni-B镀层晶体结构 | 第50-51页 |
·化学镀Ni-P/Ni-B镀层XRD | 第50-51页 |
·化学镀Ni-P/Ni-B镀层表面形貌 | 第51-54页 |
·化学镀Ni-P/Ni-B镀层的显微硬度 | 第54-55页 |
·化学镀Ni-P/Ni-B镀层的耐磨性 | 第55-60页 |
·单层Ni-P镀层的耐磨性 | 第56-57页 |
·化学镀Ni-P/Ni-B镀层的耐磨性 | 第57-60页 |
·化学镀Ni-P/Ni-B镀层的孔隙率 | 第60-61页 |
·化学镀Ni-P和Ni-B的孔隙率 | 第60页 |
·化学镀Ni-P/Ni-B镀层的孔隙率 | 第60-61页 |
·化学镀Ni-P/Ni-B镀层耐蚀性 | 第61-65页 |
·化学镀Ni-P镀层的极化曲线 | 第61-62页 |
·化学镀Ni-P/Ni-B镀层的极化曲线 | 第62-65页 |
·降低镀层厚度对镀层性能的影响 | 第65-74页 |
·降低厚度的镀层配方 | 第65-66页 |
·降低镀层厚度对Ni-P/Ni-B镀层表面形貌的影响 | 第66-68页 |
·降低镀层厚度对Ni-P/Ni-B镀层耐磨性的影响 | 第68-71页 |
·降低镀层厚度对Ni-P/Ni-B镀层极化曲线的影响 | 第71-74页 |
·本章小结 | 第74-75页 |
结论 | 第75-77页 |
致谢 | 第77-78页 |
参考文献 | 第78-83页 |
攻读硕士期间参加的科研项目及发表的论文 | 第83页 |