| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-16页 |
| 1．1 表面ZETA电位的理论介绍 | 第9-11页 |
| 1．2 表面ZETA电位在膜技术领域应用的国内研究现状 | 第11-13页 |
| 1．3 表面ZETA电位在膜技术领域应用的国外研究现状 | 第13-15页 |
| 1．4 特点与课题构思 | 第15-16页 |
| 2 表面电位的理论分析 | 第16-22页 |
| 2．1 动电位界面电荷与电势的形成 | 第16-17页 |
| 2．1．1 两相对离子的亲合力不同 | 第16页 |
| 2．1．2 表面基团的离子化 | 第16-17页 |
| 2．1．3 两相对电子的亲合力不同 | 第17页 |
| 2．2 表面电位的形成 | 第17-18页 |
| 2．2．1 双电层模型及其电荷分布 | 第17-18页 |
| 2．2．2 Stern双电层模型 | 第18页 |
| 2．3 测量方法 | 第18-22页 |
| 2．3．1 压电法 | 第18-19页 |
| 2．3．2 电化学方法 | 第19-20页 |
| 2．3．3 化学方法 | 第20-22页 |
| 3 滤膜表面电位的测量 | 第22-28页 |
| 3．1 试验目的 | 第22页 |
| 3．2 试验部分 | 第22-26页 |
| 3．2．1 主要实验仪器和试剂 | 第22页 |
| 3．2．2 实验方法 | 第22-23页 |
| 3．2．3 结果和讨论 | 第23-26页 |
| 3．3 样品测试与小节 | 第26-28页 |
| 4 膜形态结构分析 | 第28-51页 |
| 4．1 试验目的 | 第28页 |
| 4．2 试验部分 | 第28页 |
| 4．2．1 主要实验仪器和试剂 | 第28页 |
| 4．2．2 实验方法 | 第28页 |
| 4．3 结果和讨论 | 第28-51页 |
| 4．3．1 生产流程中膜片断面变化情况 | 第28-37页 |
| 4．3．2 生产流程中膜片表面变化情况 | 第37-44页 |
| 4．3．3 膜片的压密情况 | 第44-47页 |
| 4．3．4 保护层承受冲刷情况 | 第47-50页 |
| 4．3．5 讨论 | 第50-51页 |
| 5 结论与展望 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |