ZAO（掺铝氧化锌）导电膜的制备及特性研究
| 第一章 引言 | 第1-17页 |
| ·太阳电池的发展趋势 | 第8-14页 |
| ·ZAO透明导电膜在薄膜太阳电池中的应用 | 第14-15页 |
| ·ZAO导电膜所存在的问题 | 第15-16页 |
| ·开题思想及课题主要研究内容 | 第16-17页 |
| 第二章 ZAO薄膜的性质、应用、制备和发展趋势 | 第17-25页 |
| ·ZAO薄膜的特性 | 第17-18页 |
| ·ZAO薄膜的应用 | 第18-20页 |
| ·ZAO导电膜的制备 | 第20页 |
| ·ZAO导电膜的研究现状 | 第20-25页 |
| 第三章 ZAO导电膜的制备及其性能的表征 | 第25-37页 |
| ·直流磁控溅射设备和工艺简介 | 第25-27页 |
| ·溅射镀膜的物理过程 | 第25-26页 |
| ·溅射镀膜的特点 | 第26页 |
| ·溅射镀膜的分类 | 第26-27页 |
| ·直流反应磁控溅射 | 第27-29页 |
| ·磁控溅射的原理 | 第27-28页 |
| ·磁控溅射的特点 | 第28-29页 |
| ·直流反应磁控溅射装置 | 第29-31页 |
| ·设备的主要技术规范 | 第29页 |
| ·设备的结构 | 第29-30页 |
| ·溅射操作程序 | 第30-31页 |
| ·测试方法 | 第31-37页 |
| ·结构分析 | 第31-32页 |
| ·形貌分析 | 第32页 |
| ·导电能力测试 | 第32-34页 |
| ·厚度测量 | 第34-37页 |
| 第四章 实验及结果分析 | 第37-57页 |
| ·制备条件对ZAO薄膜结晶的影响 | 第37-47页 |
| ·衬底温度对薄膜结晶的影响 | 第37-42页 |
| ·反应气压对薄膜结晶的影响 | 第42-45页 |
| ·退火处理对薄膜结构特性的影响 | 第45-47页 |
| ·制备条件对ZAO薄膜导电能力的影响 | 第47-51页 |
| ·衬底温度对薄膜电阻率的影响 | 第47-49页 |
| ·氧氩流量比对薄膜电阻率的影响 | 第49-50页 |
| ·退火处理对薄膜电阻率的影响 | 第50-51页 |
| ·制备条件对薄膜沉积速率的影响 | 第51-54页 |
| ·反应气压对薄膜沉积速率的影响 | 第51-52页 |
| ·氧氩气体流量比对薄膜沉积速率的影响作用 | 第52-53页 |
| ·衬底温度对沉积速率的影响 | 第53-54页 |
| ·ZAO薄膜在酸溶液腐蚀前后表面形貌的变化 | 第54-55页 |
| ·制备薄膜的可见光透过率 | 第55-57页 |
| 第五章 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 后记 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 附录 | 第66页 |
