准分子激光电化学刻蚀硅工艺实验研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| ·课题来源 | 第9页 |
| ·课题背景 | 第9-11页 |
| ·课题的目的和意义 | 第11-12页 |
| ·国内外发展的现状与趋势 | 第12-17页 |
| ·论文的研究内容 | 第17-18页 |
| 2 工艺原理 | 第18-22页 |
| ·激光直接刻蚀作用 | 第18-19页 |
| ·电化学刻蚀作用 | 第19-20页 |
| ·激光电化学耦合刻蚀作用 | 第20-21页 |
| ·本章小结 | 第21-22页 |
| 3 实验系统 | 第22-33页 |
| ·实验装置总体结构 | 第22-23页 |
| ·准分子激光器 | 第23-24页 |
| ·电化学反应装置 | 第24-28页 |
| ·工艺实验光路 | 第28-30页 |
| ·工艺加工材料 | 第30-32页 |
| ·检测设备与仪器 | 第32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 4 实验结果与分析 | 第33-58页 |
| ·硅刻蚀的基本形貌 | 第33-34页 |
| ·刻蚀表面的横向影响 | 第34-35页 |
| ·冲击对刻蚀背面的影响 | 第35-36页 |
| ·脉冲参数对刻蚀工艺的影响 | 第36-39页 |
| ·外加电压对刻蚀工艺的影响 | 第39-42页 |
| ·化学溶液对刻蚀工艺的影响 | 第42-46页 |
| ·硅片类型对刻蚀工艺的影响 | 第46-48页 |
| ·激光类型对刻蚀工艺的影响 | 第48-49页 |
| ·与准分子激光直接刻蚀硅工艺的对比分析 | 第49-53页 |
| ·与准分子激光水溶液刻蚀硅工艺的对比分析 | 第53-54页 |
| ·与金属材料刻蚀特性的对比分析 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 5 总结与展望 | 第58-60页 |
| ·全文总结 | 第58-59页 |
| ·对将来的展望 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 附录 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第65页 |
