氧等离子体清洗对sol-gel薄膜透过率和表面性质的影响
1 绪论 | 第1-11页 |
·低温等离子体处理研究意义 | 第8页 |
·低温等离子体处理研究现状 | 第8-9页 |
·低温等离子体处理应用领域 | 第9-10页 |
·本论文的工作 | 第10-11页 |
2 低温等离子体 | 第11-17页 |
·低温等离子概念 | 第11-12页 |
·低温等离子体产生方法 | 第12-17页 |
·辉光放电 | 第12-13页 |
·电晕放电 | 第13页 |
·介质阻挡放电 | 第13页 |
·射频单电极电晕放电 | 第13-14页 |
·滑动电弧放电 | 第14页 |
·大气压下辉光放电技术介绍 | 第14-15页 |
·次大气压下辉光放电技术 | 第15-17页 |
3 低温等离子体表面处理 | 第17-30页 |
·概述 | 第17-19页 |
·等离子体表面处理的特征 | 第17-18页 |
·等离子体表面处理条件 | 第18-19页 |
·等离子体表面处理活化层的生成 | 第19-25页 |
·表面层自由基的生成与光能的作用 | 第19-20页 |
·表面自由能的变化及润湿性和黏接性 | 第20-21页 |
·表面引入特定管能团 | 第21-24页 |
·表面交联层的形成 | 第24页 |
·蚀刻及粗化面的形成 | 第24-25页 |
·等离子体表面处理的应用 | 第25-29页 |
·印刷、涂层、黏接加工的应用 | 第25-27页 |
·表面保护膜的应用 | 第27页 |
·表面接枝改性的应用 | 第27页 |
·医用材料的应用 | 第27-28页 |
·电子显微镜的应用 | 第28页 |
·在纤维、纺织品加工的应用 | 第28-29页 |
·等离子处理优点 | 第29-30页 |
4 sol-gel镀膜 | 第30-35页 |
·提拉膜 | 第30-32页 |
·旋转膜 | 第32-33页 |
·弯月膜 | 第33-35页 |
5 实验准备和过程 | 第35-37页 |
·样品准备 | 第35页 |
·实验过程 | 第35-37页 |
6 实验结果与分析 | 第37-52页 |
·激光透过率变化分析 | 第37-41页 |
·与基片和物理膜对比分析 | 第37-38页 |
·时效处理 | 第38-41页 |
·表面形貌变化分析 | 第41-48页 |
·轮廓仪测试结果分析 | 第41-43页 |
·AFM测试结果分析 | 第43-48页 |
·接触角变化分析 | 第48-52页 |
·接触角及接触角测试原理 | 第48-49页 |
·接触角测试结果分析 | 第49-52页 |
7 总结 | 第52-53页 |
8.参考文献 | 第53-55页 |
9.作者硕士期间发表的论文 | 第55-56页 |
10.致谢 | 第56-57页 |
11.声明 | 第57页 |