碳纳米管操纵及其基础工艺技术的初步探索
| 第一章 绪 论 | 第1-20页 |
| ·课题背景 | 第9-15页 |
| ·碳纳米管与基底间作用力的研究 | 第10-12页 |
| ·碳纳米管力学性能的检测 | 第12-13页 |
| ·碳纳米管器件的可控装配 | 第13-14页 |
| ·自组装单层膜技术在碳纳米管器件制造中的应用 | 第14-15页 |
| ·碳纳米管概述 | 第15-18页 |
| ·碳纳米管的结构 | 第15-16页 |
| ·碳纳米管的制备方法 | 第16-17页 |
| ·碳纳米管的性能及应用 | 第17-18页 |
| ·论文各部分的主要内容 | 第18-20页 |
| 第二章 碳纳米管操纵样品的制备及表征 | 第20-32页 |
| ·碳纳米管操纵样品的制备 | 第20-21页 |
| ·碳纳米管操纵样品的表征 | 第21-25页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)表征 | 第21-23页 |
| ·透射电子显微镜(TEM)表征 | 第23-25页 |
| ·实验中各因素对分散样品制备的影响 | 第25-30页 |
| ·基底状况对分散样品制备的影响 | 第25-27页 |
| ·碳纳米管原材料对分散样品制备的影响 | 第27-28页 |
| ·超声时间对分散样品制备的影响 | 第28-30页 |
| ·分散浓度对分散样品制备的影响 | 第30页 |
| ·本章小结 | 第30-32页 |
| 第三章 碳纳米管的操纵及其力学性能的测试 | 第32-61页 |
| ·碳纳米管操纵实验仪器简介 | 第32-38页 |
| ·原子力显微镜 | 第32-37页 |
| ·TDS3000系列数字式荧光示波器 DPO | 第37-38页 |
| ·碳纳米管操纵的基本原理 | 第38-40页 |
| ·碳纳米管操纵实例 | 第40-46页 |
| ·推动 | 第40-42页 |
| ·分离 | 第42页 |
| ·定形 | 第42-43页 |
| ·剪切与推动的结合 | 第43-46页 |
| ·碳纳米管操纵动态过程的微观力学分析 | 第46-60页 |
| ·碳纳米管操纵的力学模型 | 第46-47页 |
| ·碳纳米管操纵中力学信号的测量 | 第47-48页 |
| ·实验结果及讨论 | 第48-60页 |
| ·碳纳米管操纵中的微观摩擦问题分析 | 第48-55页 |
| ·碳纳米管力学性能分析 | 第55-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第四章 碳纳米管定位与自组装单层膜技术的探索 | 第61-79页 |
| ·实验方案设计 | 第62页 |
| ·有机硅衍生物自组装单层膜的制备与表征 | 第62-70页 |
| ·有机硅衍生物自组装单层膜的制备原理及步骤 | 第62-64页 |
| ·有机硅衍生物自组装单层膜的表征 | 第64-70页 |
| ·原子力显微镜(AFM)表征 | 第65-69页 |
| ·扫描俄歇微探针(AES)表征 | 第69-70页 |
| ·有机硅衍生物自组装单层膜的成形 | 第70-76页 |
| ·宏观机械简单成形 | 第71页 |
| ·电子束刻蚀简单成形 | 第71-73页 |
| ·纳米刻蚀简单成形 | 第73-75页 |
| ·复杂图形成形方案 | 第75-76页 |
| ·两种有机硅衍生物自组装单层膜的合成 | 第76-77页 |
| ·未二次羟基化直接成膜 | 第76-77页 |
| ·二次羟基化后再成膜 | 第77页 |
| ·碳纳米管与有机硅衍生物自组装单层膜间的相互作用 | 第77-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 第五章 结论与建议 | 第79-81页 |
| ·论文期间完成的工作及结论 | 第79-80页 |
| ·本课题尚需进一步研究的问题和建议 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-86页 |
| 致 谢 | 第86-87页 |
| 声 明 | 第87-88页 |
| 附录 1原子力显微镜实验细则 | 第88-91页 |
| 附录 2原子力显微镜刻蚀常用命令及程序 | 第91-96页 |
| 本人简历 | 第96页 |
