| 摘要 | 第1-9页 |
| ABSTRACT | 第9-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-31页 |
| ·氨基酸的概述 | 第17-21页 |
| ·氨基酸的性质 | 第17-18页 |
| ·缬氨酸的性质 | 第18-19页 |
| ·氨基酸消旋机理研究现状 | 第19-21页 |
| ·水滑石的研究概述 | 第21-24页 |
| ·水滑石的性质 | 第21-22页 |
| ·水滑石的应用 | 第22-23页 |
| ·水滑石的理论研究 | 第23-24页 |
| ·水滑石对旋光异构反应的影响 | 第24页 |
| ·蒙脱土的研究概述 | 第24-27页 |
| ·蒙脱土的性质 | 第24-26页 |
| ·蒙脱土的应用 | 第26页 |
| ·蒙脱土的理论研究 | 第26-27页 |
| ·蒙脱土对旋光异构反应的影响 | 第27页 |
| ·课题的研究内容和意义 | 第27-31页 |
| ·课题的研究内容 | 第27-28页 |
| ·课题研究的意义 | 第28-31页 |
| 第二章 理论基础与实验原理 | 第31-45页 |
| ·量子化学计算方法 | 第31-41页 |
| ·从头计算方法 | 第31-33页 |
| ·分子轨道理论 | 第33-36页 |
| ·基函数 | 第36-37页 |
| ·密度泛函 | 第37-38页 |
| ·含时密度泛函 | 第38-39页 |
| ·过渡态 | 第39-41页 |
| ·分子模拟 | 第41页 |
| ·实验材料 | 第41-42页 |
| ·实验药品 | 第41-42页 |
| ·实验仪器 | 第42页 |
| ·实验装置 | 第42页 |
| ·仪器及表征方法 | 第42-45页 |
| ·表征仪器 | 第42-43页 |
| ·表征原理 | 第43-45页 |
| 第三章 L-缬氨酸旋光异构光反应机理的理论研究 | 第45-57页 |
| ·计算方法 | 第45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-54页 |
| ·缬氨酸和中间体几何结构特征 | 第46-48页 |
| ·S0和 T1态过渡态的结构特征 | 第48-50页 |
| ·L-VAL 的旋光异构光反应机理 | 第50-53页 |
| ·溶剂化效应对该反应的影响 | 第53-54页 |
| ·小结 | 第54-57页 |
| 第四章 水滑石层板对 L-缬氨酸旋光异构反应的影响 | 第57-67页 |
| ·L-缬氨酸插层水滑石材料的制备及表征方法 | 第57页 |
| ·计算方法及模型的选取 | 第57-58页 |
| ·结果与讨论 | 第58-65页 |
| ·插层产物的表征 | 第58-62页 |
| ·主体、客体及产物的几何结构特征 | 第62-64页 |
| ·Mulliken 电荷布居分析 | 第64页 |
| ·镁铝水滑石对 L-缬氨酸旋光异构反应的影响 | 第64-65页 |
| ·小结 | 第65-67页 |
| 第五章 蒙脱土层板对 L-缬氨酸旋光异构反应的影响 | 第67-75页 |
| ·L-缬氨酸改性蒙脱土材料的制备及表征方法 | 第67页 |
| ·计算方法及模型的选取 | 第67-68页 |
| ·结果与讨论 | 第68-73页 |
| ·改性产物的表征 | 第68-70页 |
| ·主体、客体及产物的几何结构特征 | 第70-72页 |
| ·Mulliken 电荷布居分析 | 第72-73页 |
| ·蒙脱土对 L-缬氨酸旋光异构反应的影响 | 第73页 |
| ·小结 | 第73-75页 |
| 第六章 结论 | 第75-77页 |
| 论文创新点 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-86页 |
| 致谢 | 第86-87页 |
| 研究成果及已发表的论文 | 第87-88页 |
| 作者与导师简介 | 第88-89页 |
| 硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第89-90页 |