| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第7-15页 |
| 1．1 非平衡等离子体化学的发展趋势 | 第7-11页 |
| 1．2 高气压非平衡等离子体化学的研究意义 | 第11-13页 |
| 1．3 本文的主要内容 | 第13-15页 |
| 第2章 非平衡等离子体化学的基本原理 | 第15-24页 |
| 2．1 引言 | 第15页 |
| 2．2 等离子体中粒子间的碰撞 | 第15-18页 |
| 2．2．1 碰撞中的能量转移 | 第15-17页 |
| 2．2．2 碰撞截面和碰撞频率 | 第17-18页 |
| 2．3 等离子体化学的主要元反应 | 第18-20页 |
| 2．4 等离子体的状态 | 第20-23页 |
| 2．4．1 氮等离子体的状态 | 第20-22页 |
| 2．4．2 氢等离子体的状态 | 第22-23页 |
| 2．5 小结 | 第23-24页 |
| 第3章 介质阻挡电离放电的原理 | 第24-29页 |
| 3．1 引言 | 第24页 |
| 3．2 介质阻挡放电的机理和结构 | 第24-25页 |
| 3．3 介质阻挡放电的主要参量 | 第25-28页 |
| 3．3．1 电场强度和放电功率 | 第25-26页 |
| 3．3．2 电场强度与电子能量关系 | 第26-28页 |
| 3．4 小结 | 第28-29页 |
| 第4章 气体微放电现象的分析 | 第29-36页 |
| 4．1 引言 | 第29页 |
| 4．2 气体微放电的形成 | 第29-30页 |
| 4．3 微放电影像图片与分析 | 第30-35页 |
| 4．3．1 实验装置和监测设备 | 第30页 |
| 4．3．2 气体微放电的影像分析 | 第30-35页 |
| 4．4 小结 | 第35-36页 |
| 第5章 高气压非平衡等离子体化学合成氨的研究 | 第36-44页 |
| 5．1 引言 | 第36页 |
| 5．2 合成NH_3的基础实验及其化学反应过程 | 第36-38页 |
| 5．2．1 实验装置与检测设备 | 第36-37页 |
| 5．2．2 合成氨的基础实验 | 第37-38页 |
| 5．3 各种实验参数对合成氨浓度的影响研究 | 第38-43页 |
| 5．3．1 折合电场强度与合成NH_3浓度的关系 | 第38-40页 |
| 5．3．2 反应气体的温度与合成NH_3浓度的关系 | 第40-41页 |
| 5．3．3 H_2／N_2体积比与合成NH_3浓度的关系 | 第41-42页 |
| 5．3．4 气体总流量与合成NH_3浓度的关系 | 第42-43页 |
| 5．4 小结 | 第43-44页 |
| 第6章 结论 | 第44-46页 |
| 攻读学位期间公开发表的论文 | 第46-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-53页 |
| 附录 | 第53页 |