柔性基底上有序生长六噻吩薄膜及其在太阳电池中的应用
摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-8页 |
第一章 文献综述 | 第8-22页 |
·太阳能光伏发电技术概况 | 第8-11页 |
·太阳能光伏发电系统 | 第8-9页 |
·太阳电池的研究概况 | 第9-11页 |
·柔性有机薄膜太阳电池的研究进展 | 第11-15页 |
·有机薄膜太阳电池的基本原理 | 第11-13页 |
·单层结构 | 第13-14页 |
·双层结构 | 第14页 |
·主体异质结 | 第14-15页 |
·有机半导体材料 | 第15-18页 |
·有机半导体材料的分类 | 第15-16页 |
·有机半导体材料的应用 | 第16-18页 |
·有机半导体薄膜的制备方法 | 第18-21页 |
·液相法 | 第18-20页 |
·气相法 | 第20-21页 |
·研究内容及意义 | 第21-22页 |
第二章 实验药剂、仪器及研究方法 | 第22-30页 |
·实验药剂及材料 | 第22-23页 |
·实验仪器 | 第23页 |
·真空蒸发镀膜系统 | 第23-27页 |
·真空系统 | 第23-24页 |
·镀膜系统 | 第24-25页 |
·QCM膜厚实时监控系统 | 第25-26页 |
·真空蒸发镀膜实验步骤 | 第26-27页 |
·薄膜的表征 | 第27-28页 |
·太阳电池光伏性能测定 | 第28-30页 |
第三章 柔性基底上有序生长六噻吩薄膜 | 第30-44页 |
·六噻吩薄膜的生长过程 | 第30-33页 |
·薄膜材料的一般生长过程 | 第30-32页 |
·六噻吩薄膜的生长过程 | 第32-33页 |
·六噻吩薄膜的制备 | 第33-38页 |
·基片清洗 | 第33-34页 |
·PVP薄膜的旋涂制备 | 第34-36页 |
·真空蒸发沉积六噻吩薄膜 | 第36-38页 |
·在柔性PVP基底上有序生长六噻吩薄膜 | 第38-41页 |
·生长速率对薄膜结晶性的影响 | 第38页 |
·基底温度对薄膜结晶性的影响 | 第38-41页 |
·在柔性ITO基底上有序生长六噻吩薄膜 | 第41-43页 |
·生长速率对薄膜结晶性的影响 | 第41页 |
·基底温度对薄膜结晶性的影响 | 第41-43页 |
·小结 | 第43-44页 |
第四章 六噻吩/C_(60)薄膜太阳电池的研究 | 第44-58页 |
·有机太阳电池的等效电路 | 第44-46页 |
·有机薄膜太阳电池的制备工艺 | 第46-51页 |
·ITO的化学蚀刻 | 第47-48页 |
·有机单层的真空沉积 | 第48-49页 |
·主体异质结薄膜的真空沉积 | 第49-51页 |
·Al电极的真空沉积 | 第51页 |
·六噻吩/C_(60)薄膜太阳电池的光伏性能 | 第51-55页 |
·平面异质结器件 | 第51-54页 |
·主体异质结器件 | 第54-55页 |
·基于六噻吩的蓄电型柔性DSSCs的设想 | 第55-56页 |
·小结 | 第56-58页 |
第五章 结论 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-65页 |
致谢 | 第65-66页 |
攻读硕士学位期间发表论文及参与项目 | 第66页 |