| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·铌酸锂晶体的结构与性质 | 第10-14页 |
| ·LiNbO_3 薄膜的研究现状 | 第14-18页 |
| ·LiNbO_3 多层膜及SiO_2/Si 薄膜光致发光性质的研究现状 | 第18-21页 |
| ·本课题的意义 | 第21-22页 |
| 第二章 实验技术及分析方法 | 第22-31页 |
| ·射频磁控溅射 | 第22-25页 |
| ·本课题的实验路线 | 第25-26页 |
| ·LiNbO_3 靶材与薄膜的表征与性能测量 | 第26-31页 |
| 第三章 LiNbO_3陶瓷靶的制备 | 第31-41页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·理论分析 | 第31-34页 |
| ·陶瓷靶的制备 | 第34-36页 |
| ·各种因素对陶瓷靶晶粒尺寸及气孔率的影响 | 第36-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 LiNbO_3/SI 薄膜的制备与分析 | 第41-58页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·LiNbO_3 薄膜的制备 | 第41-42页 |
| ·实验结果分析 | 第42-53页 |
| ·LiNbO_3 薄膜生长机理分析 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第五章 铌酸锂薄膜的光学性质 | 第58-64页 |
| ·引言 | 第58页 |
| ·LiNbO_3 薄膜的折射率 | 第58-59页 |
| ·LiNbO_3 多层膜的光致发光性质 | 第59-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 第六章 总结 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-72页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |