| 中文摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-21页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·ZnO薄膜基本性质 | 第8-10页 |
| ·ZnO薄膜的光电特性 | 第9-10页 |
| ·ZnO薄膜的压电性质 | 第10页 |
| ·ZnO薄膜的压敏和气敏性质 | 第10页 |
| ·ZnO薄膜的应用 | 第10-12页 |
| ·ZnO发光管和激光器 | 第10-11页 |
| ·太阳能电池 | 第11页 |
| ·紫外光探测器 | 第11页 |
| ·光电器件单片集成用 | 第11页 |
| ·表面声波器件 | 第11-12页 |
| ·ZnO薄膜的研究现状 | 第12-16页 |
| ·薄膜制备的研究进展 | 第12-14页 |
| ·ZnO薄膜的发光机理 | 第14-15页 |
| ·纳米发光材料的研究进展和发展方向 | 第15-16页 |
| ·本文主要研究内容 | 第16页 |
| 参考文献 | 第16-21页 |
| 第二章 ZnO薄膜的制备方法和表征 | 第21-35页 |
| ·ZnO薄膜制备方法 | 第21-24页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第21-22页 |
| ·金属有机化学气相淀积(MOCVD) | 第22-23页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第23-24页 |
| ·磁控溅射法制备ZNO薄膜的特点和原理 | 第24-29页 |
| ·磁控溅射原理 | 第24-25页 |
| ·射频磁控溅射特点 | 第25-27页 |
| ·设备简述 | 第27-28页 |
| ·样品制备 | 第28-29页 |
| ·薄膜的生长 | 第29-31页 |
| ·薄膜的形成过程 | 第29-30页 |
| ·择优定向生长 | 第30-31页 |
| ·薄膜表征 | 第31-34页 |
| ·X射线衍射原理 | 第31-32页 |
| ·AFM原子力显微镜(AFM)原理简介 | 第32-34页 |
| 参考文献 | 第34-35页 |
| 第三章 ZnO薄膜的光学性质 | 第35-41页 |
| ·光学透过率 | 第35-36页 |
| ·ZnO薄膜紫外-可见吸收谱 | 第35-36页 |
| ·ZnO薄膜的光致发光 | 第36-39页 |
| ·带间跃迁发光 | 第37页 |
| ·激子复合发光 | 第37-38页 |
| ·能带与缺陷能级之间的电子跃迁发光 | 第38页 |
| ·ZnO薄膜室温光致发光谱 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-41页 |
| 第四章 磁控溅射法各参数对ZnO薄膜结构和光学性质的影响 | 第41-58页 |
| ·溅射功率对薄膜结构和发光性能的研究 | 第41-46页 |
| ·不同功率下薄膜的厚度 | 第42页 |
| ·不同溅射功率下薄膜结构 | 第42-44页 |
| ·溅射功率对薄膜的室温光致发光的影响 | 第44-45页 |
| ·吸收光谱 | 第45-46页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜结构和发光性能的影响 | 第46-49页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜结构特性的影响 | 第46-47页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜室温光致发光的影响 | 第47-49页 |
| ·小结 | 第49页 |
| ·氧氩比对ZnO薄膜结构和发光性能的影响 | 第49-52页 |
| ·不同氧氩流量比对ZnO薄膜结构的影响 | 第50-51页 |
| ·不同氧氩流量比对ZnO薄膜室温光致发光的影响 | 第51-52页 |
| ·工作气压对ZnO薄膜结构和发光性能的影响 | 第52-55页 |
| ·不同溅射气压下薄膜厚度 | 第52-53页 |
| ·不同溅射气压对ZnO薄膜生长的影响 | 第53-54页 |
| ·不同溅射气压对ZnO薄膜室温光致发光的影响 | 第54-55页 |
| ·高度C轴择优生长的ZnO薄膜的获得 | 第55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |
| 第五章 结论和展望 | 第58-60页 |
| 攻读硕士学位期间发表的文章 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |