束匀滑衍射光学器件的设计方法和制作工艺
摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-9页 |
目录 | 第9-13页 |
第一章 绪论 | 第13-32页 |
·衍射光学元件简述 | 第13-17页 |
·惯性约束核聚变技术简介 | 第17-23页 |
·惯性约束核聚变(ICF)简述 | 第17-19页 |
·ICF的实现及驱动方式 | 第19-23页 |
·ICF均匀照明中的DOE | 第23-27页 |
·均匀照明的DOE实现方法 | 第23-26页 |
·多台阶位相片(DPP)的评价指标 | 第26-27页 |
·本论文的内容安排 | 第27-29页 |
参考文献 | 第29-32页 |
第二章 DOE设计原理及方法 | 第32-49页 |
·DOE的设计原理 | 第32-35页 |
·DOE的设计思想 | 第32-33页 |
·均匀照明用DOE的理论设计模型 | 第33-35页 |
·常用的DOE设计方法 | 第35-41页 |
·基于Fourier变换的迭代方法 | 第35-39页 |
·极值搜索优化算法 | 第39-41页 |
·其他方法 | 第41-46页 |
·杂化算法 | 第41-42页 |
·分布迭代方法 | 第42-43页 |
·空间频域优化方法 | 第43-45页 |
·差值反馈优化算法 | 第45-46页 |
·本章小结 | 第46-48页 |
参考文献 | 第48-49页 |
第三章 DOE设计中的插值迭代方法 | 第49-64页 |
·插值迭代设计原理 | 第49-53页 |
·信号内插 | 第49-50页 |
·DOE束匀滑内插模型 | 第50-51页 |
·算法流程 | 第51-53页 |
·设计实例分析 | 第53-59页 |
·设计结果 | 第53-56页 |
·束匀滑效果比较 | 第56-57页 |
·重复性验证 | 第57-59页 |
·算法的局限性 | 第59-61页 |
·本章小结 | 第61-63页 |
参考文献 | 第63-64页 |
第四章 DOE设计中的衍射效率分析 | 第64-82页 |
·Φ320mm16台阶DPP的衍射效率分析 | 第64-68页 |
·数值模拟分析 | 第65-66页 |
·理论推导分析 | 第66-68页 |
·衍射效率的改进办法 | 第68-77页 |
·衍射效率损耗的近似计算 | 第68-72页 |
·增大采样点设计 | 第72-76页 |
·离线测试结果 | 第76-77页 |
·新的DPP设计结果 | 第77-80页 |
·本章小结 | 第80-82页 |
第五章 DPP的工艺实现及误差分析 | 第82-105页 |
·DPP制作工艺简介 | 第82-86页 |
·紫外光刻工艺 | 第83-84页 |
·离子束刻蚀工艺 | 第84-85页 |
·掩模套刻方法 | 第85-86页 |
·DPP的束匀滑实现 | 第86-87页 |
·70mm直径小口径DPP工艺分析 | 第87-97页 |
·随机分布型刻蚀误差对匀滑的影响 | 第87-90页 |
·球面分布型刻蚀误差对于束匀滑的影响 | 第90-97页 |
·DPP工艺优化方法 | 第97-103页 |
·离子束发射源强度拟合 | 第97-99页 |
·G参数对于束匀滑的影响 | 第99-102页 |
·离子束刻蚀工艺优化的思想 | 第102-103页 |
·本章小结 | 第103-104页 |
参考文献 | 第104-105页 |
第六章 DOE设计近期进展 | 第105-121页 |
·旋转对称DOE设计 | 第105-111页 |
·一维Phase Unwrap方法 | 第105-107页 |
·旋转对称DOE设计结果 | 第107-109页 |
·旋转对称DPP的宽容性 | 第109-111页 |
·衍、折射结合设计方法 | 第111-114页 |
·基本设计原理 | 第111-112页 |
·小口径衍折射DPP设计结果 | 第112-114页 |
·二维位相展开与CPP设计 | 第114-119页 |
·CPP的设计理念 | 第114-116页 |
·二维位相展开与CPP设计方法 | 第116-118页 |
·CPP设计结果 | 第118-119页 |
·本章小结 | 第119-120页 |
参考文献 | 第120-121页 |
第七章 总结与展望 | 第121-125页 |
·总结 | 第121-122页 |
·展望 | 第122-125页 |
在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第125-126页 |
致谢 | 第126-127页 |