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束匀滑衍射光学器件的设计方法和制作工艺

摘要第1-7页
ABSTRACT第7-9页
目录第9-13页
第一章 绪论第13-32页
   ·衍射光学元件简述第13-17页
   ·惯性约束核聚变技术简介第17-23页
     ·惯性约束核聚变(ICF)简述第17-19页
     ·ICF的实现及驱动方式第19-23页
   ·ICF均匀照明中的DOE第23-27页
     ·均匀照明的DOE实现方法第23-26页
     ·多台阶位相片(DPP)的评价指标第26-27页
   ·本论文的内容安排第27-29页
 参考文献第29-32页
第二章 DOE设计原理及方法第32-49页
   ·DOE的设计原理第32-35页
     ·DOE的设计思想第32-33页
     ·均匀照明用DOE的理论设计模型第33-35页
   ·常用的DOE设计方法第35-41页
     ·基于Fourier变换的迭代方法第35-39页
     ·极值搜索优化算法第39-41页
   ·其他方法第41-46页
     ·杂化算法第41-42页
     ·分布迭代方法第42-43页
     ·空间频域优化方法第43-45页
     ·差值反馈优化算法第45-46页
   ·本章小结第46-48页
 参考文献第48-49页
第三章 DOE设计中的插值迭代方法第49-64页
   ·插值迭代设计原理第49-53页
     ·信号内插第49-50页
     ·DOE束匀滑内插模型第50-51页
     ·算法流程第51-53页
   ·设计实例分析第53-59页
     ·设计结果第53-56页
     ·束匀滑效果比较第56-57页
     ·重复性验证第57-59页
   ·算法的局限性第59-61页
   ·本章小结第61-63页
 参考文献第63-64页
第四章 DOE设计中的衍射效率分析第64-82页
   ·Φ320mm16台阶DPP的衍射效率分析第64-68页
     ·数值模拟分析第65-66页
     ·理论推导分析第66-68页
   ·衍射效率的改进办法第68-77页
     ·衍射效率损耗的近似计算第68-72页
     ·增大采样点设计第72-76页
     ·离线测试结果第76-77页
   ·新的DPP设计结果第77-80页
   ·本章小结第80-82页
第五章 DPP的工艺实现及误差分析第82-105页
   ·DPP制作工艺简介第82-86页
     ·紫外光刻工艺第83-84页
     ·离子束刻蚀工艺第84-85页
     ·掩模套刻方法第85-86页
   ·DPP的束匀滑实现第86-87页
   ·70mm直径小口径DPP工艺分析第87-97页
     ·随机分布型刻蚀误差对匀滑的影响第87-90页
     ·球面分布型刻蚀误差对于束匀滑的影响第90-97页
   ·DPP工艺优化方法第97-103页
     ·离子束发射源强度拟合第97-99页
     ·G参数对于束匀滑的影响第99-102页
     ·离子束刻蚀工艺优化的思想第102-103页
   ·本章小结第103-104页
 参考文献第104-105页
第六章 DOE设计近期进展第105-121页
   ·旋转对称DOE设计第105-111页
     ·一维Phase Unwrap方法第105-107页
     ·旋转对称DOE设计结果第107-109页
     ·旋转对称DPP的宽容性第109-111页
   ·衍、折射结合设计方法第111-114页
     ·基本设计原理第111-112页
     ·小口径衍折射DPP设计结果第112-114页
   ·二维位相展开与CPP设计第114-119页
     ·CPP的设计理念第114-116页
     ·二维位相展开与CPP设计方法第116-118页
     ·CPP设计结果第118-119页
   ·本章小结第119-120页
 参考文献第120-121页
第七章 总结与展望第121-125页
   ·总结第121-122页
   ·展望第122-125页
在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果第125-126页
致谢第126-127页

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