| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 引言 | 第9-19页 |
| ·等离子体刻蚀工艺的研究背景和意义简介 | 第9-12页 |
| ·MEMS技术简介 | 第9-10页 |
| ·等离子体刻蚀工艺的研究背景和意义 | 第10-12页 |
| ·电容耦合等离子体刻蚀技术工作原理 | 第12-15页 |
| ·射频容性耦合等离子体鞘层的研究意义和现状 | 第15-18页 |
| ·本文的研究内容和结构安排 | 第18-19页 |
| 2 带环形沟道的电极附近射频偏压鞘层特性的二维流体模拟 | 第19-29页 |
| ·理论模型 | 第19-21页 |
| ·初始及边界条件 | 第21-23页 |
| ·计算方法 | 第23-24页 |
| ·结果与分析 | 第24-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 3 带圆柱形凹槽电极附近双频偏压鞘层特性的二维流体力学模拟 | 第29-41页 |
| ·理论模型 | 第30-32页 |
| ·理论模型 | 第30-31页 |
| ·初始及边界条件 | 第31-32页 |
| ·计算方法 | 第32页 |
| ·结果与分析 | 第32-40页 |
| ·低频源频率对鞘层物理特性的影响 | 第32-35页 |
| ·低频源功率对鞘层物理特性的影响 | 第35-37页 |
| ·放电气压对鞘层物理特性的影响 | 第37-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 4 结论与展望 | 第41-42页 |
| ·本文主要结论 | 第41页 |
| ·展望 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-47页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |