氧化钒薄膜的制备及特性研究
| 致谢 | 第1-6页 |
| 中文摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 1 绪论 | 第11-19页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·二氧化钒薄膜的性质 | 第11-15页 |
| ·二氧化钒晶体结构 | 第11-14页 |
| ·二氧化钒薄膜的特性 | 第14-15页 |
| ·二氧化钒的薄膜的应用 | 第15-17页 |
| ·红外辐射测热计、热敏电阻 | 第15页 |
| ·智能窗材料 | 第15-16页 |
| ·光存储 | 第16页 |
| ·光电开关 | 第16页 |
| ·激光防辐射 | 第16-17页 |
| ·锂电池电极材料 | 第17页 |
| ·本论文研究的目的、意义及内容 | 第17-19页 |
| 2 磁控溅射法制备二氧化钒薄膜 | 第19-28页 |
| ·二氧化钒薄膜的制备方法 | 第19-21页 |
| ·真空蒸镀法 | 第19页 |
| ·溅射法 | 第19-20页 |
| ·化学气相沉积法(CVD法) | 第20-21页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-Gel) | 第21页 |
| ·射频磁控溅射法制备二氧化钒薄膜 | 第21-26页 |
| ·射频磁控溅射法制备二氧化钒薄膜原理及特征 | 第21-24页 |
| ·磁控溅射仪器及实验参数 | 第24-25页 |
| ·射频磁控溅射法制备二氧化钒薄膜过程 | 第25-26页 |
| ·退火处理 | 第26-28页 |
| ·真空退火 | 第26页 |
| ·空气气氛中退火 | 第26-28页 |
| 3 二氧化钒薄膜的测试 | 第28-31页 |
| ·四探针测电阻 | 第28页 |
| ·台阶仪 | 第28-29页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第29页 |
| ·AFM | 第29页 |
| ·加热及测温装置 | 第29-31页 |
| 4 应用于智能窗的VO_2薄膜制备 | 第31-43页 |
| ·不同氧分压下制备VO_2薄膜 | 第31-32页 |
| ·空气气氛中退火 | 第32-34页 |
| ·不同衬底制备VO_2薄膜 | 第34-36页 |
| ·AFM | 第36-38页 |
| ·XRD测试 | 第38-39页 |
| ·薄膜光学性质研究 | 第39-41页 |
| ·测量光路 | 第39-40页 |
| ·测量结果 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 5 应用于微测辐射热计的氧化钒薄膜制备 | 第43-53页 |
| ·不同溅射温度下制备VO_2薄膜 | 第43-44页 |
| ·真空退火温度对薄膜的影响 | 第44-47页 |
| ·空气气氛中退火 | 第47-51页 |
| ·空气中退火温度对薄膜的影响 | 第47-49页 |
| ·空气中退火降温速率对薄膜的影响 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 6 结论 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 作者简历 | 第59-61页 |
| 学位论文数据集 | 第61页 |
