| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| ·薄膜材料简介 | 第9-10页 |
| ·薄膜材料与技术 | 第9页 |
| ·薄膜力学性能 | 第9-10页 |
| ·薄膜光学性能 | 第10页 |
| ·薄膜电磁学性能 | 第10页 |
| ·ODS(Oxide Dispersion Strengthened)合金简介 | 第10-13页 |
| ·机械合金法制备ODS 合金 | 第10-11页 |
| ·ODS 合金在原子能领域的应用 | 第11-12页 |
| ·ODS 合金在高温领域的应用 | 第12页 |
| ·ODS 合金在磁学领域的应用 | 第12-13页 |
| ·氧化钇概述 | 第13-16页 |
| ·氧化钇基本信息 | 第13-14页 |
| ·合金材料应用 | 第14页 |
| ·反应堆材料应用 | 第14页 |
| ·陶瓷材料稳定剂 | 第14-15页 |
| ·光学性能及应用 | 第15页 |
| ·研究意义 | 第15-16页 |
| ·本文的主要研究内容及目标 | 第16-17页 |
| 第2章 研究方法与实验设备 | 第17-23页 |
| ·制备方法与设备介绍 | 第17-20页 |
| ·磁控溅射技术介绍 | 第17-18页 |
| ·JGP450 超高真空多功能磁控溅射设备介绍 | 第18-19页 |
| ·使用JGP450 磁控溅射设备制备样品 | 第19-20页 |
| ·氧化钇掺杂铁薄膜的实验过程 | 第20-21页 |
| ·真空封管退火 | 第20页 |
| ·离子辐照处理 | 第20-21页 |
| ·主要分析表征方法及设备 | 第21-23页 |
| ·三维白光干涉表面形貌仪 | 第21页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第21-22页 |
| ·纳米压痕仪 | 第22页 |
| ·振动样品磁强计 | 第22页 |
| ·X 射线衍射仪 | 第22页 |
| ·X 射线荧光光谱仪 | 第22-23页 |
| 第3章 氧化钇掺杂铁薄膜的制备与表征 | 第23-29页 |
| ·氧化钇掺杂铁薄膜制备 | 第23-24页 |
| ·氧化钇掺杂铁薄膜表面形貌表征 | 第24-25页 |
| ·氧化钇掺杂铁薄膜成分厚度分析 | 第25-26页 |
| ·氧化钇掺杂薄膜晶体结构分析 | 第26-29页 |
| 第4章 氧化钇掺杂对薄膜性能的影响 | 第29-37页 |
| ·氧化钇掺杂量对薄膜热稳定性的影响 | 第29-31页 |
| ·氧化钇掺杂量对薄膜辐照稳定性的影响 | 第31-33页 |
| ·软件计算模拟 | 第31-32页 |
| ·辐照实验及稳定性表征 | 第32-33页 |
| ·铁-氧化钇分层结构初探 | 第33-36页 |
| ·实验设想及设备改进 | 第33-35页 |
| ·分层结构对磁学性能的影响 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第5章 真空退火对薄膜性能的影响 | 第37-45页 |
| ·实验过程 | 第37页 |
| ·真空退火对晶体结构的影响 | 第37-38页 |
| ·真空退火对薄膜力学性能影响及薄膜中的竞争机制 | 第38-39页 |
| ·薄膜力学性能表征 | 第38-39页 |
| ·竞争机制 | 第39页 |
| ·真空退火对薄膜辐照稳定性影响 | 第39-40页 |
| ·真空退火对薄膜磁性能影响 | 第40-43页 |
| ·磁场方向平行膜面测试 | 第41-42页 |
| ·磁场方向垂直膜面测试 | 第42-43页 |
| ·退火后辐照处理对薄膜磁性能影响 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第6章 全文总结 | 第45-47页 |
| 参考文献 | 第47-51页 |
| 致谢 | 第51-53页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第53页 |