| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-12页 |
| 第一章 综述 | 第12-33页 |
| 1 引言 | 第12-13页 |
| 2 常规铋膜电极 | 第13-19页 |
| ·溶出分析方法分类及其特点 | 第13-14页 |
| ·铋及其化合物的性质及应用 | 第14-15页 |
| ·常规铋膜电极的制备及其应用 | 第15-19页 |
| 3 化学修饰型复合金属膜电极的发展 | 第19-21页 |
| 4 铋膜电极的应用发展前景 | 第21页 |
| 5 本论文立题依据 | 第21-22页 |
| 6 本论文主要的工作内容 | 第22-23页 |
| 参考文献 | 第23-33页 |
| 第二章 复合铋膜电极阳极溶出法测定水样中痕量铟的研究 | 第33-48页 |
| 摘要 | 第33页 |
| 1 引言 | 第33-34页 |
| 2 实验部分 | 第34-36页 |
| ·仪器和试剂 | 第34-35页 |
| ·裸玻碳电极的预处理 | 第35页 |
| ·铕离子掺杂类普鲁士蓝内膜及复合铋膜电极的制备 | 第35-36页 |
| ·样品测定方法 | 第36页 |
| 3 结果与讨论 | 第36-45页 |
| ·复合铋膜电极的镀铋过程及实验条件的优化 | 第36-39页 |
| ·镀铋方式和镀铋电位区间的选择 | 第36-38页 |
| ·镀铋膜厚度对电极性能的影响 | 第38页 |
| ·镀铋过程中扫描速度对电极性能的影响 | 第38-39页 |
| ·镀铋溶液的酸度及支持电解质的选择 | 第39页 |
| ·测定水样中痕量铟实验条件的优化 | 第39-43页 |
| ·铟在常规铋膜电极与复合铋膜电极上溶出伏安性能的比较 | 第39-40页 |
| ·支持电解质及浓度的影响 | 第40页 |
| ·测定底液pH 的影响 | 第40-41页 |
| ·富集时间和电位的影响 | 第41-42页 |
| ·溶出伏安法实验参数的设置 | 第42页 |
| ·共存离子的影响 | 第42-43页 |
| ·检测方法的准确度和稳定性 | 第43-44页 |
| ·检测线性范围和检测限 | 第43页 |
| ·电极的重现性及稳定性 | 第43-44页 |
| ·国家标准样品与环境水样测定 | 第44-45页 |
| 4 结论 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-48页 |
| 第三章 复合铋膜电极阳极溶出法测定痕量锌 | 第48-59页 |
| 摘要 | 第48页 |
| 1 引言 | 第48-49页 |
| 2 实验部分 | 第49-50页 |
| ·仪器与试剂 | 第49页 |
| ·复合铋膜电极的制备方法(同第二章) | 第49页 |
| ·测定方法 | 第49-50页 |
| 3 结果与讨论 | 第50-56页 |
| ·实验条件的优化 | 第50-54页 |
| ·锌在复合铋膜电极上的溶出伏安特性 | 第50页 |
| ·支持电解质及浓度的影响 | 第50-51页 |
| ·测定底液pH 的影响 | 第51页 |
| ·富集时间及富集电位的影响 | 第51-53页 |
| ·静息时间和静息电位的影响 | 第53页 |
| ·干扰离子的影响 | 第53-54页 |
| ·检测方法的准确度和稳定性 | 第54页 |
| ·检测线性范围和检测限 | 第54页 |
| ·电极的重现性及稳定性 | 第54页 |
| ·实际样品测定 | 第54-56页 |
| ·样品的消解 | 第54-55页 |
| ·样品的测定 | 第55-56页 |
| 4 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-59页 |
| 第四章 复合铋膜电极阳极溶出伏安法测定药物中的异烟肼 | 第59-68页 |
| 摘要 | 第59页 |
| 1 引言 | 第59-60页 |
| 2 实验部分 | 第60-61页 |
| ·仪器与试剂 | 第60-61页 |
| ·复合铋膜电极的制备方法（同第二章） | 第61页 |
| ·测定方法 | 第61页 |
| 3 结果与讨论 | 第61-65页 |
| ·实验条件的优化 | 第61-63页 |
| ·支持电解质及浓度的影响 | 第61-62页 |
| ·测定底液pH 的影响 | 第62页 |
| ·富集时间的影响 | 第62页 |
| ·富集电位的影响 | 第62-63页 |
| ·起始电位的选择 | 第63页 |
| ·干扰离子的影响 | 第63页 |
| ·检测方法的准确度和稳定性 | 第63-64页 |
| ·检测线性范围和检测限 | 第63-64页 |
| ·电极的重现性及稳定性 | 第64页 |
| ·实际样品测定 | 第64-65页 |
| 4 结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-68页 |
| 发表论文目录 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
