ZK60镁合金微弧氧化工艺及其膜层组织和性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-28页 |
| ·引言 | 第16页 |
| ·镁合金特点及应用 | 第16-17页 |
| ·ZK60 合金的研究和应用现状 | 第17-18页 |
| ·镁合金的腐蚀 | 第18-20页 |
| ·腐蚀机理 | 第18-19页 |
| ·腐蚀类型 | 第19-20页 |
| ·镁合金表面处理方法 | 第20-22页 |
| ·化学转化膜 | 第20页 |
| ·金属镀层 | 第20-21页 |
| ·有机涂层 | 第21页 |
| ·阳极氧化 | 第21页 |
| ·激光表面处理 | 第21-22页 |
| ·微弧氧化（MAO） | 第22-26页 |
| ·微弧氧化技术研究发展史 | 第22页 |
| ·微弧氧化的机理 | 第22-23页 |
| ·微弧氧化的影响因素 | 第23-25页 |
| ·镁合金微弧氧化研究现状 | 第25-26页 |
| ·课题背景和研究内容及思路 | 第26-28页 |
| ·课题背景 | 第26页 |
| ·研究内容及思路 | 第26-28页 |
| 第二章 实验材料及方法 | 第28-33页 |
| ·实验材料及设备 | 第28-29页 |
| ·实验材料 | 第28页 |
| ·实验所用试剂 | 第28-29页 |
| ·实验所用仪器 | 第29页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜的制备过程 | 第29-30页 |
| ·前期表面处理 | 第29页 |
| ·电解液的配置 | 第29页 |
| ·微弧氧化处理 | 第29-30页 |
| ·试样后处理 | 第30页 |
| ·实验测试及分析方法 | 第30-33页 |
| ·膜层厚度测量 | 第30页 |
| ·膜层微观形貌及化学成分分析 | 第30页 |
| ·膜层耐蚀性能测试 | 第30-31页 |
| ·膜层硬度测量 | 第31页 |
| ·膜层耐磨性测试 | 第31页 |
| ·膜层接触角测量 | 第31页 |
| ·膜层结合力测量 | 第31-33页 |
| 第三章 电解质对镁合金微弧氧化的影响及优化 | 第33-51页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·主成膜剂浓度优化 | 第33-38页 |
| ·硅酸钠浓度对微弧氧化电压的影响 | 第34页 |
| ·硅酸钠浓度对膜层表面形貌的影响 | 第34-36页 |
| ·硅酸钠浓度对膜层截面形貌的影响 | 第36-37页 |
| ·硅酸钠浓度对膜层耐蚀性影响 | 第37-38页 |
| ·氢氧化钠浓度优化 | 第38-41页 |
| ·浓度氢氧化钠微弧氧化过程电压影响 | 第38页 |
| ·氢氧化钠浓度对膜层表面形貌的影响 | 第38-39页 |
| ·氢氧化钠浓度对膜层截面形貌的影响 | 第39-41页 |
| ·氢氧化钠浓度对膜耐蚀性影响 | 第41页 |
| ·四硼酸钠浓度优化 | 第41-45页 |
| ·四硼酸钠浓度微弧氧化过程电压的影响 | 第42页 |
| ·四硼酸钠浓度对膜层表面形貌的影响 | 第42-43页 |
| ·四硼酸钠浓度对膜层截面形貌的影响 | 第43-44页 |
| ·四硼酸钠浓度对膜层耐蚀性影响 | 第44-45页 |
| ·柠檬酸钠浓度优化 | 第45-48页 |
| ·柠檬酸钠浓度对微弧氧化电压影响 | 第45-46页 |
| ·柠檬酸钠浓度对膜层表面形貌的影响 | 第46页 |
| ·柠檬酸钠浓度对膜层截面形貌的影响 | 第46-48页 |
| ·柠檬酸钠浓度对膜层耐蚀性影响 | 第48页 |
| ·正交试验设计 | 第48-50页 |
| ·正交试验结果 | 第48页 |
| ·极差分析 | 第48-49页 |
| ·较优方案的选择 | 第49-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 第四章 电参数对镁合金微弧氧化的影响及优化 | 第51-67页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·电流密度优化 | 第51-55页 |
| ·电流密度对微弧氧化电压的影响 | 第51-52页 |
| ·电流密度对膜层表面形貌影响规律 | 第52-53页 |
| ·电流密度对膜层截面形貌的影响 | 第53-55页 |
| ·电流密度对膜层的耐腐蚀性能的影响 | 第55页 |
| ·频率的优化 | 第55-59页 |
| ·频率对微弧氧化电压的影响 | 第55-56页 |
| ·频率对膜层表面形貌的影响 | 第56-57页 |
| ·频率对膜层截面形貌的影响 | 第57-58页 |
| ·频率对膜层腐蚀性能的影响 | 第58-59页 |
| ·占空比优化 | 第59-62页 |
| ·正占空比对微弧氧化电压的影响 | 第59页 |
| ·正占空比对膜层表面形貌的影响 | 第59-60页 |
| ·正占空比对膜层截面形貌的影响 | 第60-61页 |
| ·正占空比对膜层耐蚀性的影响 | 第61-62页 |
| ·微弧氧化时间对膜层的影响 | 第62-65页 |
| ·微弧氧化时间对膜层表面形貌的影响 | 第62-63页 |
| ·微弧氧化时间对膜层截面形貌的影响 | 第63-64页 |
| ·微弧氧化时间对膜层耐蚀性的影响 | 第64-65页 |
| ·正交试验设计 | 第65-66页 |
| ·正交试验结果 | 第65页 |
| ·极差分析 | 第65-66页 |
| ·较优方案的选择 | 第66页 |
| ·小结 | 第66-67页 |
| 第五章 ZK60 合金微弧氧化膜的表征及机理探讨 | 第67-75页 |
| ·引言 | 第67页 |
| ·ZK60 镁合金微弧氧化膜层的表征 | 第67-71页 |
| ·镁合金微弧氧化膜的表面形貌及元素分布 | 第67-69页 |
| ·镁合金微弧氧化膜的截面结构和线扫描 | 第69-70页 |
| ·镁合金微弧氧化膜的XRD 分析 | 第70页 |
| ·镁合金微弧氧化膜红外光谱分析 | 第70-71页 |
| ·ZK60 镁合金微弧氧化机理探究 | 第71-73页 |
| ·小结 | 第73-75页 |
| 第六章 ZK60 合金微弧氧化膜的性能研究 | 第75-84页 |
| ·引言 | 第75页 |
| ·微弧氧化膜的表面粗糙度 | 第75-76页 |
| ·微弧氧化膜耐腐蚀性能及机理分析 | 第76-78页 |
| ·微弧氧化膜的阻抗 | 第76-77页 |
| ·微弧氧化膜的动电位极化曲线 | 第77-78页 |
| ·微弧氧化膜的硬度 | 第78-79页 |
| ·微弧氧化膜的耐磨性及磨损形貌分析 | 第79-80页 |
| ·微弧氧化膜与基体的结合力 | 第80-81页 |
| ·微弧氧化膜润湿性能及与漆膜的结合力 | 第81-82页 |
| ·小结 | 第82-84页 |
| 结论 | 第84-85页 |
| 参考文献 | 第85-90页 |
| 致谢 | 第90-91页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学位论文 | 第91-92页 |
| 详细摘要 | 第92-96页 |
