| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-34页 |
| ·研究背景及意义 | 第14-15页 |
| ·三维有序大孔材料的发展概况 | 第15-25页 |
| ·胶体晶体的研究进展 | 第15-18页 |
| ·制备方法的研究现状 | 第18-21页 |
| ·应用领域的概括 | 第21-25页 |
| ·离子液体中电沉积半导体材料 | 第25-29页 |
| ·离子液体的概述 | 第25-26页 |
| ·离子液体的特性 | 第26-27页 |
| ·硅锗的电沉积 | 第27-29页 |
| ·光子晶体的基本理论 | 第29-32页 |
| ·光学性质的理论基础 | 第29-30页 |
| ·光波的散射原理 | 第30-31页 |
| ·带隙的计算方法 | 第31-32页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第32-34页 |
| 第2章 实验表征方法及其原理 | 第34-44页 |
| ·样品制备 | 第34-39页 |
| ·实验材料和设备 | 第34-35页 |
| ·制备工艺与流程 | 第35-39页 |
| ·表征方法 | 第39-44页 |
| ·表面形貌的表征 | 第40-41页 |
| ·微观结构的表征 | 第41页 |
| ·光学常数的表征 | 第41-42页 |
| ·光谱特性的表征 | 第42-43页 |
| ·发光特性的表征 | 第43-44页 |
| 第3章 模板生长及表面微加工 | 第44-56页 |
| ·胶体晶体模板的生长 | 第44-51页 |
| ·胶体晶体生长过程的机理分析 | 第44-47页 |
| ·生长工艺参数 | 第47-51页 |
| ·基板表面的飞秒激光微加工 | 第51-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第4章 锗膜的制备及微观结构研究 | 第56-94页 |
| ·锗的基本性质 | 第56-57页 |
| ·磁控溅射法制备锗膜 | 第57-61页 |
| ·离子液体中电沉积法制备锗膜 | 第61-64页 |
| ·咪唑型离子液体的性质 | 第62-64页 |
| ·制备过程 | 第64页 |
| ·[HMIm]FAP 中电沉积锗膜 | 第64-72页 |
| ·金和ITO 基片的循环伏安特性分析 | 第64-66页 |
| ·锗膜的表面形貌 | 第66-69页 |
| ·锗膜的微观结构分析 | 第69-72页 |
| · | 第72-85页 |
| ·扫描速率对电极反应过程的影响 | 第72-75页 |
| ·沉积电位对表面形貌的影响 | 第75-80页 |
| ·沉积时间对膜厚的影响 | 第80-82页 |
| ·锗膜的表面价态分析 | 第82-85页 |
| ·锗膜的光学常数 | 第85-93页 |
| ·测试方法 | 第85-86页 |
| ·有效介质理论 | 第86-88页 |
| ·数据拟合 | 第88-93页 |
| ·本章小结 | 第93-94页 |
| 第5章 离子液体中电沉积锗有序大孔结构 | 第94-111页 |
| ·实验装置 | 第94-95页 |
| ·离子液体与PS 模板的润湿特性 | 第95-98页 |
| ·[HMIm]FAP 离子液体与PS 模板的润湿性分析 | 第95-97页 |
| · | 第97-98页 |
| ·[HMIm]FAP 中电沉积特性 | 第98-103页 |
| ·锗二维有序大孔结构的形貌 | 第98-102页 |
| ·锗三维有序大孔结构的形貌 | 第102-103页 |
| · | 第103-108页 |
| ·不同粒径的锗三维有序大孔结构的形貌 | 第103-106页 |
| ·锗三维有序大孔结构的光谱特性 | 第106-108页 |
| ·锗光子晶体的光学常数 | 第108-109页 |
| ·本章小结 | 第109-111页 |
| 第6章 锗有序结构的光致发光特性 | 第111-130页 |
| ·样品制备 | 第111-112页 |
| ·发光机理 | 第112-114页 |
| ·结果和讨论 | 第114-129页 |
| ·光致发光特性 | 第114-123页 |
| ·激光热效应的影响 | 第123-129页 |
| ·本章小结 | 第129-130页 |
| 结论 | 第130-132页 |
| 参考文献 | 第132-141页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第141-143页 |
| 致谢 | 第143-144页 |
| 个人简历 | 第144页 |