| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第10-30页 |
| 1.1 氧化锆的结构、相变及用途 | 第10-14页 |
| 1.1.1 氧化锆的结构 | 第10-11页 |
| 1.1.2 氧化锆的相变 | 第11-13页 |
| 1.1.3 氧化锆的用途 | 第13-14页 |
| 1.2 多晶陶瓷材料的传统合成方法 | 第14-23页 |
| 1.2.1 无压合成 | 第15-16页 |
| 1.2.2 压力烧结 | 第16-19页 |
| 1.2.3 电辅助烧结 | 第19-22页 |
| 1.2.4 其他烧结工艺 | 第22-23页 |
| 1.3 静态高压科学技术简介 | 第23-27页 |
| 1.3.1 一级压腔装置 | 第24-26页 |
| 1.3.2 二级压腔装置 | 第26-27页 |
| 1.4 选题依据和主要研究内容 | 第27-30页 |
| 1.4.1 选题依据 | 第27-28页 |
| 1.4.2 研究现状 | 第28-29页 |
| 1.4.3 研究内容 | 第29-30页 |
| 2 高压设备与表征手段 | 第30-40页 |
| 2.1 高压设备组装及标温标压 | 第30-38页 |
| 2.1.1 国产六面顶高压设备组装 | 第30-31页 |
| 2.1.2 国产六面顶高压设备的压力标定和温度标定 | 第31-34页 |
| 2.1.3 Walker型大腔体压机结构简介 | 第34-35页 |
| 2.1.4 Walker型大腔体压机组件介绍 | 第35-38页 |
| 2.1.5 Walker型大腔体压机压力标定 | 第38页 |
| 2.2 表征手段 | 第38-40页 |
| 2.2.1 X射线衍射技术 | 第38-39页 |
| 2.2.2 软件精修 | 第39页 |
| 2.2.3 EDS能谱分析 | 第39页 |
| 2.2.4 扫描电镜显微镜 | 第39页 |
| 2.2.5 透射电子显微镜 | 第39页 |
| 2.2.6 显微硬度 | 第39-40页 |
| 3 微米晶单斜相氧化锆高压相变研究 | 第40-55页 |
| 3.1 引言 | 第40-41页 |
| 3.2 实验准备 | 第41-43页 |
| 3.2.1 初始材料制备和表征 | 第41-42页 |
| 3.2.2 实验过程 | 第42-43页 |
| 3.3 六面顶压机实验结果分析与讨论 | 第43-50页 |
| 3.3.1 样品XRD分析 | 第43-47页 |
| 3.3.2 样品SEM分析 | 第47-49页 |
| 3.3.3 样品TEM分析 | 第49-50页 |
| 3.4 Walker型大腔体压机实验结果分析与讨论 | 第50-52页 |
| 3.5 未能全转变分析与讨论 | 第52-53页 |
| 3.6 本章小结 | 第53-55页 |
| 4 高压下制备亚微米四方相块体陶瓷的研究 | 第55-67页 |
| 4.1 引言 | 第55-56页 |
| 4.2 实验过程 | 第56页 |
| 4.3 实验结果分析与讨论 | 第56-64页 |
| 4.4 硬度表征 | 第64-65页 |
| 4.5 致密程度不均匀的简单解释 | 第65-66页 |
| 4.6 本章小结 | 第66-67页 |
| 5 总结与展望 | 第67-69页 |
| 5.1 总结 | 第67页 |
| 5.2 展望 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-75页 |
| 个人简历及在学期间主要成果 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |