| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 引言 | 第11-25页 |
| 1.1 有机溶剂应用现状及其分离纯化技术 | 第11页 |
| 1.2 膜分离技术 | 第11-13页 |
| 1.2.1 膜分离的简介 | 第11-12页 |
| 1.2.2 膜分离技术的分类 | 第12-13页 |
| 1.3 有机溶剂纳滤膜 | 第13-20页 |
| 1.3.1 无机陶瓷有机溶剂纳滤膜 | 第13-14页 |
| 1.3.2 高分子有机溶剂纳滤膜 | 第14-15页 |
| 1.3.3 层状有机溶剂纳滤膜 | 第15-17页 |
| 1.3.4 有机溶剂纳滤膜的制备 | 第17-20页 |
| 1.4 层状膜的微结构调控与性能优化 | 第20-23页 |
| 1.4.1 层状膜的微结构调控与耐溶剂性能优化 | 第20-21页 |
| 1.4.2 层状膜的微结构调控与纳滤性能优化 | 第21-23页 |
| 1.5 论文的选题意义与内容 | 第23-25页 |
| 2 实验部分 | 第25-31页 |
| 2.1 实验材料与设备 | 第25-27页 |
| 2.1.1 材料与试剂 | 第25-26页 |
| 2.1.2 仪器与设备 | 第26-27页 |
| 2.2 无机纳米材料与膜的表征 | 第27-28页 |
| 2.2.1 傅里叶变换红外光谱(FTIR) | 第27页 |
| 2.2.2 X射线衍射(XRD) | 第27页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜(SEM)和能谱分析(EDS) | 第27页 |
| 2.2.4 透射电子显微镜(TEM) | 第27页 |
| 2.2.5 原子力显微镜(AFM) | 第27页 |
| 2.2.6 静态接触角测试(CA) | 第27页 |
| 2.2.7 慢正电子湮灭寿命谱(PAS) | 第27-28页 |
| 2.2.8 X射线光电子能谱(XPS) | 第28页 |
| 2.3 膜的纳滤性能测试 | 第28-29页 |
| 2.4 本章小结 | 第29-31页 |
| 3 层状膜表面异质结构构建与纳滤性能强化 | 第31-48页 |
| 3.1 引言 | 第31-33页 |
| 3.2 PDMS@GO异质结构层状膜的制备 | 第33页 |
| 3.3 GO纳米片的微观形貌表征 | 第33-34页 |
| 3.4 层状膜的微观结构表征 | 第34-42页 |
| 3.4.1 GO层状膜的微观结构表征 | 第34-36页 |
| 3.4.2 PDMS@GO膜的微观结构和物化性质 | 第36-42页 |
| 3.5 层状膜的纳滤性能测试 | 第42-46页 |
| 3.5.1 PDMS@GO膜的渗透系数测试 | 第42-43页 |
| 3.5.2 PDMS@GO膜的截留性能 | 第43-44页 |
| 3.5.3 PDMS@GO膜的结构稳定性测试 | 第44-46页 |
| 3.6 本章小结 | 第46-48页 |
| 4 层状膜通道异质结构构建与纳滤性能强化 | 第48-64页 |
| 4.1 引言 | 第48-49页 |
| 4.2 通道异质结构层状膜的制备 | 第49-50页 |
| 4.2.1 GO和 RGO纳米片的合成 | 第49页 |
| 4.2.2 GO@RGO异质结构层状膜的制备 | 第49-50页 |
| 4.3 GO和 RGO纳米片的结构表征 | 第50-52页 |
| 4.4 层状膜的结构表征 | 第52-58页 |
| 4.4.1 GO和 RGO层状膜的结构表征 | 第52-53页 |
| 4.4.2 GO@RGO层状膜的结构表征 | 第53-58页 |
| 4.5 层状膜的纳滤性能测试 | 第58-62页 |
| 4.5.1 GO@RGO膜的渗透系数测试 | 第58-59页 |
| 4.5.2 GO@RGO膜的分离因子测试 | 第59-61页 |
| 4.5.3 GO@RGO膜的结构稳定性测试 | 第61-62页 |
| 4.6 本章小结 | 第62-64页 |
| 5 结论与展望 | 第64-67页 |
| 5.1 结论 | 第64-65页 |
| 5.2 主要创新点 | 第65页 |
| 5.3 研究展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-74页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75页 |