| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 太阳能电池综述 | 第11-13页 |
| 1.3 CZTS薄膜太阳能电池及国内外发展现状 | 第13-16页 |
| 1.3.1 PLD法制备CZTS薄膜研究现状 | 第15-16页 |
| 1.3.2 CZTS薄膜的刻蚀法研究现状 | 第16页 |
| 1.4 论文的主要内容及创新点 | 第16-19页 |
| 1.4.1 本文主要内容及理论依据 | 第16-18页 |
| 1.4.2 拟解决的关键科学问题 | 第18页 |
| 1.4.3 本文的主要创新点 | 第18-19页 |
| 1.5 本论文中涉及的实验仪器及表征手段 | 第19-20页 |
| 第二章 .挡板脉冲激光沉积（SMPLD）制备低粗糙度CZTS薄膜 | 第20-32页 |
| 2.1 传统PLD法原理简述 | 第20-21页 |
| 2.2 传统PLD法存在的缺陷 | 第21-22页 |
| 2.3 SMPLD法制备样品实验设计 | 第22-26页 |
| 2.3.1 镀膜速率与靶基距之间的关系 | 第23-24页 |
| 2.3.2 薄膜速率与填充气压的关系 | 第24-25页 |
| 2.3.3 镀膜速率与沉积时间的关系 | 第25-26页 |
| 2.4 SMPLD制备光滑CZTS薄膜的表征分析与对比 | 第26-30页 |
| 2.4.1 SMPLD法制备CZTS薄膜的表面形貌分析与对比 | 第26-28页 |
| 2.4.2 SMPLD法制备的CZTS薄膜的结晶特性分析 | 第28-30页 |
| 2.4.3 SMPLD法制备的CZTS薄膜的光学特性分析 | 第30页 |
| 2.5 本章小结 | 第30-32页 |
| 第三章 .湿化学刻蚀法对CZTS薄膜的二次相处理 | 第32-42页 |
| 3.1 湿化学刻蚀法简述 | 第32-33页 |
| 3.2 CZTS薄膜的杂相及对应的刻蚀研究现状 | 第33-34页 |
| 3.3 PLD法制备CZTS薄膜样品的二次相识别 | 第34-38页 |
| 3.4 PLD法制备样品的刻蚀处理及表征 | 第38-41页 |
| 3.5 本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 .CZTS薄膜太阳电池的制备 | 第42-55页 |
| 4.1 CZTS太阳电池制备的研究 | 第42-46页 |
| 4.1.1 CZTS太阳电池制备基础 | 第42-43页 |
| 4.1.2 CZTS薄膜太阳电池的性能检测概述 | 第43-46页 |
| 4.2 制备CZTS薄膜太阳电池的光伏性能的检测 | 第46-54页 |
| 4.2.1 挡板式脉冲激光沉积制备CZTS电池性能表征 | 第46-50页 |
| 4.2.2 湿化学刻蚀法处理前后的CZTS薄膜太阳电池性能表征 | 第50-54页 |
| 4.3 本章总结 | 第54-55页 |
| 第五章 .总结与展望 | 第55-58页 |
| 5.1 本论文主要结论与解决的关键科学问题 | 第55-56页 |
| 5.1.1 本论文主要结论 | 第55-56页 |
| 5.1.2 本论文解决的关键科学问题 | 第56页 |
| 5.2 本论文的主要创新点 | 第56-57页 |
| 5.3 基于本论文的工作展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第63页 |
