| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-43页 |
| 1.1 拉曼光谱简介 | 第11-14页 |
| 1.1.1 拉曼散射 | 第11-13页 |
| 1.1.2 拉曼光谱的特点与优势 | 第13-14页 |
| 1.2 表面增强拉曼光谱 | 第14-23页 |
| 1.2.1 表面增强拉曼光谱的发现 | 第14页 |
| 1.2.2 表面增强拉曼光谱的发展现状 | 第14-15页 |
| 1.2.3 SERS增强机制 | 第15-19页 |
| 1.2.4 表面增强拉曼增强因子的计算 | 第19-23页 |
| 1.3 激光加工表面增强拉曼基底国内外研究进展 | 第23-36页 |
| 1.3.1 激光与超快激光特性 | 第23-25页 |
| 1.3.2 激光加工具有纳米结构的金属表面增强拉曼基底 | 第25-33页 |
| 1.3.3 激光干涉加工制备表面增强拉曼基底 | 第33-36页 |
| 1.4 实时测量型表面增强拉曼检测微流道芯片的国内外研究进展 | 第36-41页 |
| 1.5 本文的主要研究内容及安排 | 第41-43页 |
| 第2章 紫外激光干涉刻蚀银纳米颗粒薄膜制备SERS基底 | 第43-55页 |
| 2.1 前言 | 第43页 |
| 2.2 实验部分与表征方法 | 第43-45页 |
| 2.2.1 银纳米颗粒的制备 | 第43页 |
| 2.2.2 溶液蒸发法制备银纳米颗粒薄膜 | 第43-44页 |
| 2.2.3 激光干涉加工系统 | 第44页 |
| 2.2.4 测试与表征 | 第44-45页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第45-53页 |
| 2.3.1 银纳米颗粒薄膜的形貌与光谱表征 | 第45-47页 |
| 2.3.2 激光脉冲能量密度对周期型结构的影响 | 第47-49页 |
| 2.3.3 激光脉冲个数对周期型结构的影响 | 第49-51页 |
| 2.3.4 银纳米颗粒薄膜的表面形貌和粗糙度 | 第51页 |
| 2.3.5 表面增强拉曼光谱应用 | 第51-53页 |
| 2.4 本章小结 | 第53-55页 |
| 第3章 两步光还原法制备具有不同表面形貌的SERS基底 | 第55-69页 |
| 3.1 前言 | 第55页 |
| 3.2 实验部分与表征方法 | 第55-56页 |
| 3.2.1 银离子前驱液的制备 | 第55-56页 |
| 3.2.2 纳秒激光还原银离子 | 第56页 |
| 3.2.3 紫外和可见光辐照下银离子的进一步还原 | 第56页 |
| 3.2.4 测试与表征 | 第56页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第56-66页 |
| 3.3.1 纳米激光还原银离子薄膜 | 第56-58页 |
| 3.3.2 365 纳米波长光还原控制银纳米颗粒生长 | 第58-59页 |
| 3.3.3 615 纳米波长光还原控制银纳米颗粒生长 | 第59-61页 |
| 3.3.4 两种波长光还原银纳米颗粒的机制讨论 | 第61-62页 |
| 3.3.5 表面形貌的原子力显微镜测试结果分析 | 第62-63页 |
| 3.3.6 表面增强拉曼光谱增强效果分析 | 第63-66页 |
| 3.4 本章小结 | 第66-69页 |
| 第4章 激光还原辅助直写制备铜微纳结构 | 第69-81页 |
| 4.1 前言 | 第69页 |
| 4.2 实验部分与表征方法 | 第69-71页 |
| 4.2.1 铜盐前驱液的制备 | 第69页 |
| 4.2.2 铜盐前驱液薄膜制备和激光还原 | 第69-70页 |
| 4.2.3 基于铜电极的可拉伸传感器 | 第70页 |
| 4.2.4 物理与化学表征方法 | 第70-71页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第71-79页 |
| 4.4 本章小结 | 第79-81页 |
| 第5章 基于飞秒激光制备可实时测量的SERS微流道芯片 | 第81-99页 |
| 5.1 前言 | 第81-82页 |
| 5.2 实验部分与表征方法 | 第82-84页 |
| 5.2.1 飞秒激光化学腐蚀法制备三维玻璃微流道 | 第82-83页 |
| 5.2.2 玻璃微流体内选区铜银金属化 | 第83页 |
| 5.2.3 飞秒激光诱导产生二维周期金属纳米结构 | 第83-84页 |
| 5.2.4 三维SERS微流道芯片表征方法 | 第84页 |
| 5.2.5 SERS芯片对镉离子的实时检测 | 第84页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第84-96页 |
| 5.3.1 飞秒激光加工三维玻璃微流体和选区金属化 | 第85-88页 |
| 5.3.2 飞秒激光诱导产生二维周期性纳米结构 | 第88-90页 |
| 5.3.3 金属薄膜的XRD和EDS分析 | 第90页 |
| 5.3.4 微流道SERS芯片的性能分析 | 第90-94页 |
| 5.3.5 二维周期性铜/银纳米结构局域电场模拟 | 第94-96页 |
| 5.4 本章小结 | 第96-99页 |
| 第6章 硅纳米线与银纳米颗粒三维SERS基底的制备研究 | 第99-115页 |
| 6.1 前言 | 第99-102页 |
| 6.2 实验部分与表征方法 | 第102-104页 |
| 6.2.1 金属辅助化学刻蚀法制备硅纳米线 | 第103页 |
| 6.2.2 银纳米颗粒修饰硅纳米线 | 第103页 |
| 6.2.3 样品表征与测试 | 第103-104页 |
| 6.3 结果与讨论 | 第104-113页 |
| 6.3.1 两步法制备硅纳米线 | 第104-106页 |
| 6.3.2 一步刻蚀法制备硅纳米线 | 第106-107页 |
| 6.3.3 预制备银纳米颗粒辅助刻蚀硅纳米线 | 第107-108页 |
| 6.3.4 银离子浓度对硅纳米线刻蚀的影响 | 第108-109页 |
| 6.3.5 表面活性剂对硅纳米线刻蚀的影响 | 第109-111页 |
| 6.3.6 Ag/Si复合结构三维SERS基底的制备与性能 | 第111-113页 |
| 6.4 本章小结 | 第113-115页 |
| 结论与展望 | 第115-117页 |
| 参考文献 | 第117-135页 |
| 攻读博士学位期间所发表的学术论文 | 第135-137页 |
| 致谢 | 第137页 |
