摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-12页 |
第一章 绪论 | 第12-24页 |
·引言 | 第12页 |
·铁电体 | 第12-14页 |
·铁电体的热释电效应 | 第14-16页 |
·热释电材料的应用前景与研究现状 | 第16-18页 |
·热释电材料性能评价标准 | 第18-19页 |
·常用薄膜制备技术简介 | 第19-22页 |
·蒸发(evaporation) | 第20页 |
·溅射(sputtering) | 第20-21页 |
·化学气相沉积(CVD) | 第21页 |
·溶胶—凝胶(sol-gel) | 第21页 |
·分子束外延(Molecular Beam Epitaxy, MBE) | 第21-22页 |
·脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition, PLD) | 第22页 |
·本文的内容安排 | 第22-24页 |
第二章 锆钛酸铅 | 第24-30页 |
·锆钛酸铅简介 | 第24页 |
·锆钛酸铅的结构与性质 | 第24-27页 |
·锆钛酸铅的晶格结构 | 第24-25页 |
·锆钛酸铅的相图 | 第25-27页 |
·锆钛酸铅的研究现状和应用前景 | 第27-30页 |
·国内外研究现状 | 第27-28页 |
·锆钛酸铅的应用前景 | 第28-30页 |
第三章 Pb(Zr_(0.93)Ti_(0.07))O_3薄膜的 PLD 制备与性能测试 | 第30-41页 |
·脉冲激光沉积系统(PLD) | 第30-31页 |
·靶材、基底和底电极的选择与制备 | 第31-33页 |
·PZT 靶材 | 第31页 |
·YBCO 靶材、YBCO 薄膜底电极的制备以及Si 基底的选择 | 第31-33页 |
·PZT 薄膜的沉积制备 | 第33-36页 |
·基片的净化 | 第33页 |
·YBCO 底电极的制备 | 第33-34页 |
·PZT 薄膜沉积和退火参数选择 | 第34-36页 |
·沉积氧气压力 | 第34页 |
·基片温度 | 第34-35页 |
·激光脉冲参数及薄膜沉积时间 | 第35页 |
·薄膜退火条件 | 第35-36页 |
·PZT 薄膜制备的工艺流程 | 第36-37页 |
·PZT 薄膜结晶形态和电性质测量原理及设备简介 | 第37-41页 |
·结晶性能测试 | 第37页 |
·铁电性能测试 | 第37-38页 |
·热释电性能测试 | 第38-41页 |
第四章 PZT 薄膜的结晶、铁电、热释电性能的测试结果与制备参数的影响规律 | 第41-72页 |
·退火温度参数影响规律研究 | 第41-47页 |
·退火温度 | 第41页 |
·退火温度系列的XRD 结果 | 第41-44页 |
·退火温度系列的铁电性能 | 第44-46页 |
·退火温度系列的热释电性能 | 第46-47页 |
·沉积温度参数影响规律研究 | 第47-52页 |
·沉积温度 | 第47-48页 |
·沉积温度系列的XRD 结果 | 第48-49页 |
·沉积温度系列的铁电性能 | 第49-51页 |
·沉积温度系列的热释电性能 | 第51-52页 |
·沉积氧压参数影响规律研究 | 第52-55页 |
·沉积氧压 | 第52页 |
·沉积氧压系列的XRD 结果 | 第52-53页 |
·沉积氧压系列的铁电性能 | 第53-54页 |
·沉积氧压系列的热释电性能 | 第54-55页 |
·激光能量参数影响规律研究 | 第55-59页 |
·激光能量 | 第55-56页 |
·激光能量系列的XRD 结果 | 第56-57页 |
·激光能量系列的铁电性能 | 第57-58页 |
·激光能量系列的热释电性能 | 第58-59页 |
·激光频率参数影响规律研究 | 第59-62页 |
·激光频率 | 第59页 |
·激光频率系列的XRD 结果 | 第59-60页 |
·激光频率系列的铁电性能 | 第60-61页 |
·激光频率系列的热释电性能 | 第61-62页 |
·沉积时间参数影响规律研究 | 第62-65页 |
·沉积时间 | 第62页 |
·沉积时间系列的XRD 结果 | 第62-63页 |
·沉积时间系列的铁电性能 | 第63-64页 |
·沉积时间系列的热释电性能 | 第64-65页 |
·退火时间参数影响规律研究 | 第65-68页 |
·退火时间 | 第65-66页 |
·退火时间系列的XRD 结果 | 第66-67页 |
·退火时间系列的铁电性能 | 第67-68页 |
·退火时间系列的热释电性能 | 第68页 |
·退火氧压参数影响规律研究 | 第68-72页 |
·退火氧压 | 第68-69页 |
·退火氧压系列的XRD 结果 | 第69-70页 |
·退火氧压系列的铁电性能 | 第70页 |
·退火氧压系列的热释电性能 | 第70-72页 |
第五章 总结和展望 | 第72-75页 |
·总结 | 第72-74页 |
·不足和展望 | 第74-75页 |
参考文献 | 第75-78页 |
致谢 | 第78-79页 |
在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第79页 |