| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 第1章 文献综述 | 第10-23页 |
| 1.1 正丁烷催化裂解的反应机理 | 第10-13页 |
| 1.1.1 自由基反应机理 | 第10-12页 |
| 1.1.2 正碳离子反应机理 | 第12-13页 |
| 1.2 催化裂解催化剂研究进展 | 第13-16页 |
| 1.2.1 氧化物催化剂 | 第14页 |
| 1.2.2 分子筛催化剂 | 第14-15页 |
| 1.2.3 金属/金属氧化物-分子筛双功能催化剂 | 第15-16页 |
| 1.3 Zn在C-H键活化方面研究进展 | 第16-18页 |
| 1.4 金属/金属氧化物-分子筛催化剂的制备方法 | 第18-20页 |
| 1.5 文献小结及本文研究内容 | 第20-23页 |
| 1.5.1 文献小结 | 第20-21页 |
| 1.5.2 本论文研究内容 | 第21-23页 |
| 第2章 实验方法 | 第23-28页 |
| 2.1 实验药品及仪器 | 第23-24页 |
| 2.1.1 实验药品 | 第23页 |
| 2.1.2 实验气体 | 第23-24页 |
| 2.1.3 实验仪器 | 第24页 |
| 2.2 主要的表征手段及仪器 | 第24-26页 |
| 2.2.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第24页 |
| 2.2.2 氨-程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第24-25页 |
| 2.2.3 氮气吸附脱附等温曲线 | 第25页 |
| 2.2.4 扫描电子显微镜(SEM) | 第25页 |
| 2.2.5 拉曼光谱(Raman) | 第25页 |
| 2.2.6 X射线光电子能谱(XPS) | 第25-26页 |
| 2.2.7 等离子体电感耦合-原子发射光谱(ICP-AES) | 第26页 |
| 2.3 催化剂性能评价 | 第26-28页 |
| 2.3.1 催化剂催化性能评价装置 | 第26页 |
| 2.3.2 催化剂催化性能评价方法 | 第26-27页 |
| 2.3.3 实验数据处理方法 | 第27-28页 |
| 第3章 Zn修饰ZSM-5分子筛催化剂制备及催化性能研究 | 第28-43页 |
| 3.1 Zn修饰ZSM-5分子筛催化剂的制备 | 第28-29页 |
| 3.2 Zn修饰ZSM-5分子筛催化剂的表征 | 第29-35页 |
| 3.2.1 XRD表征 | 第29-30页 |
| 3.2.2 氮气吸附脱附等温曲线 | 第30-32页 |
| 3.2.3 SEM表征 | 第32-33页 |
| 3.2.4 Raman表征 | 第33-34页 |
| 3.2.5 XPS表征 | 第34页 |
| 3.2.6 NH_3-TPD表征 | 第34-35页 |
| 3.3 Zn修饰ZSM-5分子筛催化剂的催化性能评价 | 第35-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 Zn富集于ZSM-5分子筛外表面催化剂制备及催化性能研究 | 第43-56页 |
| 4.1 Zn富集于ZSM-5分子筛外表面催化剂制备 | 第43-44页 |
| 4.2 Zn富集于ZSM-5分子筛外表面催化剂表征 | 第44-50页 |
| 4.2.1 XRD表征 | 第44-45页 |
| 4.2.2 氮气吸附脱附等温曲线 | 第45-47页 |
| 4.2.3 SEM表征 | 第47-48页 |
| 4.2.4 Raman表征 | 第48-49页 |
| 4.2.5 ICP-AES和XPS表征 | 第49-50页 |
| 4.2.6 NH_3-TPD表征 | 第50页 |
| 4.3 Zn富集于ZSM-5分子筛外表面催化剂性能评价 | 第50-55页 |
| 4.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 第5章 结论 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 硕士期间发表的学术论文及专利 | 第66页 |
