| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 多铁性材料的发展及分类 | 第11-14页 |
| 1.3 多铁性材料在信息器件中的应用 | 第14-17页 |
| 1.3.1 多铁性材料在多态存储器件方面的应用 | 第14-15页 |
| 1.3.2 多铁性材料在新型电写/磁读存储器件中的应用 | 第15-16页 |
| 1.3.3 多铁性材料在柔性信息器件中的应用 | 第16-17页 |
| 1.4 电场对多铁性异质结磁特性的调控机制 | 第17-21页 |
| 1.4.1 基于应力调制的磁电耦合效应 | 第17-18页 |
| 1.4.2 基于交换偏置作用调制的磁电耦合效应 | 第18-19页 |
| 1.4.3 基于界面电荷调制的磁电耦合效应 | 第19-21页 |
| 1.5 选题依据与研究内容 | 第21-23页 |
| 第二章 多铁性异质结的制备与表征 | 第23-30页 |
| 2.1 样品制备 | 第23-26页 |
| 2.1.1 脉冲激光沉积制备薄膜 | 第23-25页 |
| 2.1.2 高真空磁控溅射制备电极 | 第25-26页 |
| 2.2 物性测量 | 第26-30页 |
| 2.2.1 X射线衍射分析 | 第26页 |
| 2.2.2 铁电介电特性测量 | 第26-27页 |
| 2.2.3 原子力显微镜与压电力显微镜观察 | 第27-28页 |
| 2.2.4 超导量子干涉磁强计测试 | 第28页 |
| 2.2.5 磁光克尔测试 | 第28-30页 |
| 第三章 电场控制Fe_3O_4/STO多铁性异质结磁性能 | 第30-40页 |
| 3.1 样品制备与表征 | 第30-34页 |
| 3.1.1 异质结生长 | 第30页 |
| 3.1.2 异质结结构 | 第30-32页 |
| 3.1.3 异质结的介电性能 | 第32-33页 |
| 3.1.4 异质结的磁性能 | 第33-34页 |
| 3.2 电场对Fe_3O_4/STO多铁性异质结的Verwey相变的调控 | 第34-38页 |
| 3.2.1 Fe_3O_4薄膜的特性及其Verwey相转变 | 第34-35页 |
| 3.2.2 电场对Fe_3O_4/STO多铁性异质结磁性能及Verwey相变的调控 | 第35-38页 |
| 3.3 本章小结 | 第38-40页 |
| 第四章 电场控制Fe/STO多铁性异质结磁性能 | 第40-46页 |
| 4.1 样品制备与表征 | 第40-43页 |
| 4.1.1 异质结生长 | 第40页 |
| 4.1.2 异质结结构 | 第40-41页 |
| 4.1.3 异质结的介电性能 | 第41-42页 |
| 4.1.4 异质结磁性能 | 第42-43页 |
| 4.2 电场对于Fe/STO多铁性异质结磁性能调控的温度依赖性 | 第43-44页 |
| 4.3 本章小结 | 第44-46页 |
| 第五章 电场控制Fe_3O_4/BTO多铁性异质结磁性能 | 第46-53页 |
| 5.1 样品制备与表征 | 第46-49页 |
| 5.1.1 异质结生长 | 第46页 |
| 5.1.2 异质结结构 | 第46-48页 |
| 5.1.3 异质结的铁电性能 | 第48-49页 |
| 5.1.4 异质结的磁性能 | 第49页 |
| 5.2 电场对Fe_3O_4/BTO多铁性异质结的磁性能调控 | 第49-52页 |
| 5.3 本章小结 | 第52-53页 |
| 第六章 结论 | 第53-55页 |
| 6.1 主要研究成果 | 第53页 |
| 6.2 主要创新之处 | 第53-54页 |
| 6.3 展望 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 在学期间研究成果及发表的学术论文 | 第63页 |
| 攻读硕士学位期间发表(录用)论文情况 | 第63页 |
| 攻读硕士学位期间参加科研项目情况 | 第63页 |
