| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 引言 | 第13-22页 |
| 1.1 石墨烯概述 | 第13-15页 |
| 1.1.1 石墨烯材料的定义与特征 | 第13-14页 |
| 1.1.2 石墨烯复合材料的性质与应用 | 第14-15页 |
| 1.2 氧化石墨烯复合材料的概述 | 第15-16页 |
| 1.2.1 氧化石墨烯简介 | 第15页 |
| 1.2.2 氧化石墨烯复合材料的制备方法与应用 | 第15-16页 |
| 1.3 导电高分子与氧化石墨烯复合材料的概述 | 第16-19页 |
| 1.3.1 石墨烯基导电复合材料的特性 | 第16-17页 |
| 1.3.2 导电高分子与氧化石墨烯复合材料的研究背景 | 第17页 |
| 1.3.3 氧化石墨烯/聚吡咯复合材料的概述及应用 | 第17-19页 |
| 1.4 苯硼酸复合材料的概述 | 第19-21页 |
| 1.4.1 苯硼酸复合材料的研究背景与特性 | 第19-20页 |
| 1.4.2 苯硼酸复合材料的应用 | 第20-21页 |
| 1.5 选题背景和研究意义 | 第21-22页 |
| 第2章 聚4-乙烯基苯硼酸功能化的PPy/GO复合纳米片的制备及其电化学性能的研究 | 第22-38页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 实验药品及试剂 | 第22-23页 |
| 2.3 实验仪器及设备 | 第23页 |
| 2.4 实验部分 | 第23-25页 |
| 2.4.1 GO纳米片的制备 | 第23-24页 |
| 2.4.2 PPy/GO纳米片的制备 | 第24页 |
| 2.4.3 PPy/GO-CH2-CH=CH2纳米片的制备 | 第24页 |
| 2.4.4 P4VPBA/PPy/GO纳米片的制备 | 第24-25页 |
| 2.5 结果与讨论 | 第25-37页 |
| 2.5.1 P4VPBA/PPy/GO纳米片的形貌研究及表征 | 第25-29页 |
| 2.5.2 P4VPBA/PPy/GO修饰的GCE电极对HQ和CC的CV响应情况及其电化学行为 | 第29-34页 |
| 2.5.3 P4VPBA/PPy/GO纳米片修饰的GCE电极在同时检测HQ和CC时DPV响应情况 | 第34-35页 |
| 2.5.4 抗干扰研究 | 第35-36页 |
| 2.5.5 重复性、重现性和稳定性研究 | 第36页 |
| 2.5.6 实际样品分析 | 第36-37页 |
| 2.6 本章小结 | 第37-38页 |
| 第3章 含有苯硼酸的聚合离子液体修饰的PPy/GO复合材料的制备及电化学性能研究 | 第38-54页 |
| 3.1 引言 | 第38-39页 |
| 3.2 实验药品及试剂 | 第39页 |
| 3.3 实验仪器及设备 | 第39-40页 |
| 3.4 实验部分 | 第40-41页 |
| 3.4.1 试剂的纯化 | 第40页 |
| 3.4.2 合成PVI/PPy/GO纳米片 | 第40页 |
| 3.4.3 合成P(4VMIB-PBA)/PPy/GO纳米 | 第40页 |
| 3.4.4 化学修饰电极P(4VMIB-PBA)/PPy/GO-GCE的制备 | 第40-41页 |
| 3.5 结果与讨论 | 第41-53页 |
| 3.5.1 P(4VMIB-PBA)/PPy/GO纳米片的形貌研究及表征 | 第41-47页 |
| 3.5.2 P(4VMIB-PBA)/PPy/GO修饰的GCE电极对DA和AC的CV响应情况及其电化学行为 | 第47-50页 |
| 3.5.3 P(4VMIB-PBA)/PPy/GO修饰的GCE电极同时检测DA和AC时DPV响应情况 | 第50-51页 |
| 3.5.4 EIS分析 | 第51-52页 |
| 3.5.5 抗干扰研究 | 第52-53页 |
| 3.5.6 重复性、重现性研究 | 第53页 |
| 3.6 本章小结 | 第53-54页 |
| 第4章 结论 | 第54-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-67页 |
| 攻读硕士学位期间取得的科研成果 | 第67-68页 |
