往复式磁流变抛光试验台及抛光液的制备与性能研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第13-21页 |
| 1.1 概述 | 第13-15页 |
| 1.1.1 光学玻璃的抛光方法 | 第13-14页 |
| 1.1.2 磁流变抛光 | 第14-15页 |
| 1.2 磁流变液研究现状 | 第15-16页 |
| 1.3 磁流变抛光研究现状 | 第16-18页 |
| 1.3.1 国外研究现状 | 第16-17页 |
| 1.3.2 国内研究现状 | 第17-18页 |
| 1.4 磁流变抛光机 | 第18-19页 |
| 1.5 课题研究意义与研究主要内容 | 第19-21页 |
| 1.5.1 课题的提出及研究意义 | 第19页 |
| 1.5.2 论文的主要研究内容 | 第19-21页 |
| 第2章 往复式磁流变抛光试验台设计及磁场分析 | 第21-33页 |
| 2.1 往复式磁流变抛光试验台设计 | 第21-25页 |
| 2.1.1 总体设计 | 第21-23页 |
| 2.1.2 磁场发生装置 | 第23页 |
| 2.1.3 往复移动装置 | 第23-24页 |
| 2.1.4 夹具 | 第24-25页 |
| 2.2 磁场发生装置的磁场ANSYS分析 | 第25-28页 |
| 2.2.1 磁场发生装置ANSYS分析理论基础 | 第25-26页 |
| 2.2.2 磁场ANSYS分析过程 | 第26-27页 |
| 2.2.3 磁场ANSYS分析结果 | 第27-28页 |
| 2.3 磁场发生装置实测 | 第28-29页 |
| 2.4 磁场发生装置的往复行程分析 | 第29-31页 |
| 2.5 本章小结 | 第31-33页 |
| 第3章 磁流变抛光液的制备与性能分析 | 第33-55页 |
| 3.1 磁流变光液的组成与流变效应 | 第33-36页 |
| 3.1.1 磁流变液的组成 | 第33-35页 |
| 3.1.2 磁流变液的磁流变效应 | 第35-36页 |
| 3.2 磁流变液的性能 | 第36-40页 |
| 3.2.1 初始粘度 | 第36页 |
| 3.2.2 磁特性 | 第36-37页 |
| 3.2.3 流变特性 | 第37-38页 |
| 3.2.4 稳定性 | 第38-40页 |
| 3.3 磁流变抛光液的制备 | 第40-47页 |
| 3.3.1 磁流变抛光液的组分选择 | 第40-44页 |
| 3.3.2 磁流变抛光液的配比 | 第44页 |
| 3.3.3 磁流变抛光液的制备工艺 | 第44-45页 |
| 3.3.4 磁流变液中羰基铁粉的微观形貌 | 第45-46页 |
| 3.3.5 磁流变抛光液的磁流变效应测试 | 第46-47页 |
| 3.4 磁流变抛光液的性能测试 | 第47-54页 |
| 3.4.1 流变特性测试 | 第47-52页 |
| 3.4.2 粘度测试 | 第52页 |
| 3.4.3 稳定性测试 | 第52-54页 |
| 3.5 本章小结 | 第54-55页 |
| 第4章 往复式磁流变抛光机理分析 | 第55-65页 |
| 4.1 玻璃材料抛光的传统去除机理 | 第55-56页 |
| 4.2 往复式磁流变抛光的材料去除机理 | 第56-60页 |
| 4.2.1 抛光粉磨粒的机械去除作用 | 第56-58页 |
| 4.2.2 磁性微粒的机械去除作用 | 第58页 |
| 4.2.3 化学作用 | 第58-59页 |
| 4.2.4 工件表面纹理的形成机理 | 第59-60页 |
| 4.3 磁流变抛光材料去除模型 | 第60-63页 |
| 4.3.1 宏观力学本构模型 | 第60页 |
| 4.3.2 抛光过程的模型简化与假设 | 第60-61页 |
| 4.3.3 抛光数学模型 | 第61-63页 |
| 4.4 本章小结 | 第63-65页 |
| 第5章 往复式磁流变抛光试验 | 第65-73页 |
| 5.1 试验条件与设备 | 第65-67页 |
| 5.2 试验主要参数的选取 | 第67-70页 |
| 5.2.1 磁场强度 | 第68页 |
| 5.2.2 抛光间隙 | 第68页 |
| 5.2.3 主轴转速 | 第68页 |
| 5.2.4 抛光粉浓度 | 第68-69页 |
| 5.2.5 抛光槽移动速度 | 第69页 |
| 5.2.6 抛光时间 | 第69页 |
| 5.2.7 往复式抛光试验工艺参数 | 第69-70页 |
| 5.3 试验结果与分析 | 第70-71页 |
| 5.4 本章小结 | 第71-73页 |
| 第6章 结论与展望 | 第73-75页 |
| 6.1 结论 | 第73页 |
| 6.2 展望 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
