多尺度陷光结构设计与制备研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 薄膜硅太阳能电池陷光结构的研究进展 | 第11-15页 |
| 1.3 论文选题思想及内容 | 第15-16页 |
| 第二章 陷光结构数值分析方法 | 第16-23页 |
| 2.1 时域有限差分方法的基本方程 | 第16-19页 |
| 2.2 优化程序的数值稳定性与数值色散 | 第19-20页 |
| 2.3 优化程序的边界条件 | 第20-22页 |
| 2.4 本章小结 | 第22-23页 |
| 第三章 一维多尺度陷光结构设计与优化 | 第23-39页 |
| 3.1 结构面型的提出 | 第23-24页 |
| 3.2 数值仿真方法及仿真参数设定 | 第24-25页 |
| 3.3 陷光结构优化过程 | 第25-37页 |
| 3.3.1 全局初值优化 | 第26-30页 |
| 3.3.2 局部算法优化 | 第30-37页 |
| 3.4 结构面型特征对陷光能力的影响 | 第37-38页 |
| 3.5 本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 太阳能电池陷光结构仿真软件的设计 | 第39-47页 |
| 4.1 优化软件设计概述 | 第39-41页 |
| 4.1.1 系统需求分析 | 第39-40页 |
| 4.1.2 软件模块和框架介绍 | 第40页 |
| 4.1.3 软件的开发环境与工具 | 第40-41页 |
| 4.2 软件使用说明与演示 | 第41-45页 |
| 4.3 优化程序的应用场景 | 第45-46页 |
| 4.4 不同开源数值仿真软件比较 | 第46页 |
| 4.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 第五章 二维多尺度陷光结构的设计与优化 | 第47-57页 |
| 5.1 二维结构面型的提出 | 第47-49页 |
| 5.2 仿真计算步骤 | 第49-50页 |
| 5.3 优化过程 | 第50-56页 |
| 5.3.1 全局初值优化 | 第50-53页 |
| 5.3.2 局部算法优化 | 第53-56页 |
| 5.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 第六章 多尺度结构的初步制备研究 | 第57-71页 |
| 6.1 干涉光刻实验原理 | 第57-59页 |
| 6.2 干涉光刻实验流程 | 第59-62页 |
| 6.2.1 实验装置 | 第59页 |
| 6.2.2 实验工艺优化 | 第59-62页 |
| 6.3 一维多尺度结构的初步制备 | 第62-66页 |
| 6.3.1 一维单周期余弦结构制备研究 | 第62-64页 |
| 6.3.2 一维多尺度结构制备研究 | 第64-66页 |
| 6.4 二维多尺度结构的初步制备 | 第66-70页 |
| 6.4.1 二维单周期余弦结构制备研究 | 第66-68页 |
| 6.4.2 二维多尺度结构制备研究 | 第68-70页 |
| 6.5 本章小结 | 第70-71页 |
| 第七章 总结与展望 | 第71-73页 |
| 7.1 论文的主要创新性成果 | 第71页 |
| 7.2 下一步工作的展望 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第78-79页 |
