| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第8-12页 |
| 1.2 国内外研究进展 | 第12-14页 |
| 1.2.1 电缆老化机理 | 第12-13页 |
| 1.2.2 电缆抗老化研究 | 第13-14页 |
| 1.3 本文的主要研究内容 | 第14-16页 |
| 第2章 计算方法与基础 | 第16-30页 |
| 2.1 引言 | 第16-17页 |
| 2.2 量子化学基本理论 | 第17-20页 |
| 2.2.1 Schr(?)dinger方程 | 第17-18页 |
| 2.2.2 Born-Oppenheimer近似 | 第18-19页 |
| 2.2.3 单电子近似 | 第19-20页 |
| 2.3 密度泛函理论 | 第20-24页 |
| 2.3.1 Thomas-Fermi模型 | 第21页 |
| 2.3.2 Hohenberg-Kohn定理 | 第21-23页 |
| 2.3.3 Kohn-Sham方程 | 第23-24页 |
| 2.4 交换关联泛函 | 第24-27页 |
| 2.4.1 LDA | 第25-26页 |
| 2.4.2 GGA | 第26页 |
| 2.4.3 meta-GGA | 第26-27页 |
| 2.4.4 杂化泛函 | 第27页 |
| 2.5 计算软件 | 第27-30页 |
| 2.5.1 MaterialsStudio简介 | 第27-28页 |
| 2.5.2 VASP简介 | 第28-30页 |
| 第3章 二氧化硅填料提高电缆绝缘层抗老化性能的理论研究 | 第30-45页 |
| 3.1 引言 | 第30-31页 |
| 3.2 计算方法与模型 | 第31-32页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第32-44页 |
| 3.3.1 表面结构优化 | 第33-35页 |
| 3.3.2 界面相互作用 | 第35-36页 |
| 3.3.3 化学氢迁移过程 | 第36-39页 |
| 3.3.4 空间电荷行为 | 第39-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 石墨烯填料提高电缆绝缘层抗老化性能的理论研究 | 第45-58页 |
| 4.1 引言 | 第45-46页 |
| 4.2 计算方法与模型 | 第46-48页 |
| 4.2.1 计算方法 | 第46-47页 |
| 4.2.2 计算模型 | 第47-48页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第48-57页 |
| 4.3.1 捕获热电子能力 | 第48-50页 |
| 4.3.2 物理吸附作用 | 第50-53页 |
| 4.3.3 化学氢迁移过程 | 第53-57页 |
| 4.4 本章小结 | 第57-58页 |
| 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67页 |