| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-22页 |
| 1.1 课题的背景、目的和意义 | 第11-12页 |
| 1.2 国内外研究现状与分析 | 第12-19页 |
| 1.2.1 抛光机理 | 第12-14页 |
| 1.2.2 曲面机械自动抛光的研究现状 | 第14-17页 |
| 1.2.3 曲面的机械自动化抛光热点研究 | 第17-19页 |
| 1.3 本文的课题来源及主要工作 | 第19-21页 |
| 1.3.1 课题来源 | 第19页 |
| 1.3.2 本文主要工作 | 第19-21页 |
| 1.4 本章小结 | 第21-22页 |
| 第二章 曲面抛光材料去除轮廓及抛光接触点材料去除深度模型研究 | 第22-40页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 Preston方程 | 第22-23页 |
| 2.3 抛光表面材料去除轮廓及抛光接触点材料去除深度模型 | 第23-28页 |
| 2.4 仿真与试验 | 第28-39页 |
| 2.4.1 试验平台 | 第28-30页 |
| 2.4.2 法向抛光力 | 第30-32页 |
| 2.4.2.1 试验条件 | 第30页 |
| 2.4.2.2 法向抛光力测量数据分析 | 第30-32页 |
| 2.4.3 曲面材料去除轮廓模型仿真与试验分析 | 第32-36页 |
| 2.4.3.1 试验条件 | 第33页 |
| 2.4.3.2 曲面抛光材料去除轮廓模型仿真及试验 | 第33-36页 |
| 2.4.4 曲面零件抛光接触点材料去除深度模型仿真与试验 | 第36-39页 |
| 2.4.4.1 试验条件 | 第36-37页 |
| 2.4.4.2 抛光接触点材料去除深度模型仿真及试验 | 第37-39页 |
| 2.5 本章小结 | 第39-40页 |
| 第三章 表面粗糙度模型研究及抛光初始点工艺参数确定 | 第40-53页 |
| 3.1 引言 | 第40页 |
| 3.2 表面质量 | 第40-42页 |
| 3.3 表面粗糙度模型 | 第42-45页 |
| 3.4 表面粗糙度模型仿真与试验 | 第45-47页 |
| 3.4.1 试验条件 | 第45-46页 |
| 3.4.2 表面粗糙度模型仿真及试验 | 第46-47页 |
| 3.5 基于遗传算法确定抛光初始点工艺参数 | 第47-52页 |
| 3.5.1 遗传算法 | 第48页 |
| 3.5.2 问题的形式化描述 | 第48-49页 |
| 3.5.3 问题的求解 | 第49-50页 |
| 3.5.4 遗传算法计算流程 | 第50-52页 |
| 3.6 本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 抛光速度自适应模型 | 第53-66页 |
| 4.1 引言 | 第53页 |
| 4.2 速度自适应模型 | 第53-55页 |
| 4.3 试验验证 | 第55-62页 |
| 4.3.1 试验条件 | 第55-57页 |
| 4.3.2 自由曲面抛光接触点材料去除深度测量方法 | 第57页 |
| 4.3.3 试验结果 | 第57-62页 |
| 4.4 抛光带宽 | 第62页 |
| 4.5 曲面表面抛光带宽公式仿真与试验 | 第62-64页 |
| 4.5.1 试验条件 | 第63页 |
| 4.5.2 试验结果分析 | 第63-64页 |
| 4.6 本章小结 | 第64-66页 |
| 第五章 自动抛光轨迹规划 | 第66-89页 |
| 5.1 引言 | 第66页 |
| 5.2 常见刀具路径及轨迹生成技术 | 第66-68页 |
| 5.3 基于材料去除轮廓模型的抛光行距分析 | 第68-73页 |
| 5.3.1 平面抛光行距及其叠加分析 | 第68-72页 |
| 5.3.2 曲面抛光行距及其叠加分析 | 第72-73页 |
| 5.4 曲面抛光行距对粗糙度影响试验 | 第73-76页 |
| 5.4.1 试验条件 | 第73-74页 |
| 5.4.2 试验结果分析 | 第74-76页 |
| 5.5 基于覆盖区域图的抛光轨迹规划 | 第76-81页 |
| 5.6 抛光轨迹规划 | 第81-86页 |
| 5.7 自动抛光轨迹规划仿真 | 第86-88页 |
| 5.8 本章小结 | 第88-89页 |
| 第六章 总结 | 第89-91页 |
| 6.1 全文总结 | 第89-90页 |
| 6.2 主要创新点 | 第90页 |
| 6.3 未来研究展望 | 第90-91页 |
| 参考文献 | 第91-95页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第95-96页 |
| 致谢 | 第96-97页 |
| 附件 | 第97页 |
