| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 1 引言 | 第6-13页 |
| 1.1 激光技术的历史和发展 | 第6-8页 |
| 1.2 激光加速技术的发展 | 第8-10页 |
| 1.3 自聚焦发展历史和现状 | 第10-11页 |
| 1.4 本论文的主要工作 | 第11-13页 |
| 2 尾波场加速及自聚焦基本理论 | 第13-18页 |
| 2.1 激光尾波场的产生 | 第13-14页 |
| 2.2 自聚焦 | 第14-18页 |
| 2.2.1 自聚焦产生机制 | 第14-16页 |
| 2.2.2 自聚焦临界功率及其物理意义 | 第16-18页 |
| 3 激光尾波场加速中电子密度和初始动量对其自注入及加速的影响 | 第18-24页 |
| 3.1 引言 | 第18-19页 |
| 3.2 电子加速模型 | 第19-20页 |
| 3.3 数值分析 | 第20-22页 |
| 3.4 PIC 模拟 | 第22-23页 |
| 3.5 结论 | 第23-24页 |
| 4 自注入电子束的加速及其对激光尾场的影响 | 第24-29页 |
| 4.1 引言 | 第24页 |
| 4.2 电子加速理论模型 | 第24-26页 |
| 4.3 数值求解 | 第26-28页 |
| 4.4 结论 | 第28-29页 |
| 5 强激光与密度线性递增等离子体作用的非线性过程研究 | 第29-36页 |
| 5.1 引言 | 第29页 |
| 5.2 电子密度模型 | 第29-31页 |
| 5.3 光斑尺寸演化方程 | 第31-32页 |
| 5.4 数值分析与讨论 | 第32-35页 |
| 5.5 结论 | 第35-36页 |
| 结论 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-42页 |
| 致谢 | 第42-43页 |
| 在读期间公开发表论文（著）及科研情况 | 第43页 |