| 摘要 | 第7-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第1章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 镁及镁合金简介 | 第10页 |
| 1.2 微弧氧化技术 | 第10-12页 |
| 1.2.1 微弧氧化的定义与概述 | 第10页 |
| 1.2.2 微弧氧化技术的机理特点 | 第10-11页 |
| 1.2.3 微弧氧化膜层的特征 | 第11-12页 |
| 1.3 电解液对微弧氧化膜层组织和性能的影响 | 第12-16页 |
| 1.3.1 硅酸盐体系 | 第13-14页 |
| 1.3.2 铝酸盐体系 | 第14-15页 |
| 1.3.3 硅酸盐-铝酸盐体系 | 第15-16页 |
| 1.4 课题研究的目的、主要内容及创新性 | 第16-17页 |
| 1.4.1 课题研究的目的和主要内容 | 第16页 |
| 1.4.2 课题的创新性 | 第16-17页 |
| 第2章 研究方法 | 第17-22页 |
| 2.1 实验材料 | 第17页 |
| 2.2 实验装置 | 第17-18页 |
| 2.3 实验设计方法 | 第18-19页 |
| 2.3.1 单纯形重心设计 | 第18页 |
| 2.3.2 回归方程的建立 | 第18-19页 |
| 2.4 电解液配方及实验方案 | 第19-20页 |
| 2.5 微弧氧化膜层的制备 | 第20页 |
| 2.6 膜层的表征 | 第20-22页 |
| 2.6.1 膜层的成膜性 | 第20页 |
| 2.6.2 膜层的厚度 | 第20页 |
| 2.6.3 膜层的物相 | 第20页 |
| 2.6.4 膜层的微观形貌 | 第20页 |
| 2.6.5 膜层的耐蚀性 | 第20-22页 |
| 第3章 AZ91D膜层回归方程的建立及电解液对膜层的影响 | 第22-39页 |
| 3.1 AZ91D膜层的试验结果 | 第22页 |
| 3.2 回归方程的建立与分析 | 第22-26页 |
| 3.2.1 AZ91D镁合金膜层厚度的分析 | 第22-24页 |
| 3.2.2 AZ91D镁合金膜层点滴完全变白时间的分析 | 第24-25页 |
| 3.2.3 AZ91D镁合金膜层腐蚀电流密度的分析 | 第25-26页 |
| 3.3 电解液对成膜性的影响 | 第26-27页 |
| 3.4 电解液对膜层厚度的影响 | 第27-28页 |
| 3.5 电解液对膜层相组成的影响 | 第28-29页 |
| 3.6 电解液对膜层表面及截面形貌的影响 | 第29-35页 |
| 3.6.1 电解液对膜层表面形貌的影响 | 第29-32页 |
| 3.6.2 电解液对膜层截面形貌的影响 | 第32-35页 |
| 3.7 电解液对膜层耐蚀性的影响 | 第35-37页 |
| 3.7.1 电解液对膜层点滴耐蚀性的影响 | 第35-36页 |
| 3.7.2 电解液对膜层电化学耐蚀性的影响 | 第36-37页 |
| 3.8 本章小节 | 第37-39页 |
| 第4章 纯镁膜层回归方程的建立及电解液对膜层的影响 | 第39-56页 |
| 4.1 纯镁膜层的试验结果 | 第39页 |
| 4.2 回归方程的建立与分析 | 第39-43页 |
| 4.2.1 纯镁膜层厚度的分析 | 第39-41页 |
| 4.2.2 纯镁膜层点滴完全变白时间的分析 | 第41-42页 |
| 4.2.3 纯镁膜层腐蚀电流密度的分析 | 第42-43页 |
| 4.3 电解液对成膜性的影响 | 第43-44页 |
| 4.4 电解液对膜层厚度的影响 | 第44-45页 |
| 4.5 电解液对膜层相组成的影响 | 第45-46页 |
| 4.6 电解液对膜层表面及截面形貌的影响 | 第46-52页 |
| 4.6.1 电解液对膜层表面形貌的影响 | 第46-49页 |
| 4.6.2 电解液对膜层截面形貌的影响 | 第49-52页 |
| 4.7 电解液对膜层耐蚀性的影响 | 第52-54页 |
| 4.7.1 电解液对膜层点滴耐蚀性的影响 | 第52-53页 |
| 4.7.2 电解液对膜层电化学耐蚀性的影响 | 第53-54页 |
| 4.8 本章小节 | 第54-56页 |
| 本文结论 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文 | 第64页 |
