| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 缩写和符号清单 | 第11-15页 |
| 1 引言 | 第15-17页 |
| 2 自旋电子学简介 | 第17-38页 |
| 2.1 自旋电子学的研究和发展 | 第17-21页 |
| 2.2 霍尔效应 | 第21-38页 |
| 2.2.1 霍尔效应的发展历程 | 第21-25页 |
| 2.2.2 反常霍尔效应的理论和实验研究 | 第25-31页 |
| 2.2.3 反常霍尔效应的应用 | 第31-37页 |
| 2.2.4 需要解决的科学问题 | 第37-38页 |
| 3 样品的制备与表征 | 第38-51页 |
| 3.1 样品制备过程 | 第38-41页 |
| 3.1.1 基片清洗 | 第38页 |
| 3.1.2 样品制备 | 第38-40页 |
| 3.1.3 样品的退火处理 | 第40-41页 |
| 3.2 微加工工艺 | 第41-44页 |
| 3.3 样品的表征方法 | 第44-51页 |
| 3.3.1 样品厚度的测量 | 第44-46页 |
| 3.3.2 样品成分及化学状态表征 | 第46-47页 |
| 3.3.3 样品磁性的表征 | 第47-49页 |
| 3.3.4 样品电输运性质的表征 | 第49-51页 |
| 4 Co/MgO界面化学状态调控Co/Pt多层膜反常霍尔效应的研究 | 第51-59页 |
| 4.1 引言 | 第51-52页 |
| 4.2 实验方法 | 第52页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第52-58页 |
| 4.4 小结 | 第58-59页 |
| 5 Hf插层对Co/Pt多层膜反常霍尔效应热稳定性影响的研究 | 第59-66页 |
| 5.1 引言 | 第59页 |
| 5.2 实验方法 | 第59-60页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第60-65页 |
| 5.4 小结 | 第65-66页 |
| 6 HfO_2对具有垂直磁各向异性Co/Pt多层膜反常霍尔效应影响的研究 | 第66-77页 |
| 6.1 引言 | 第66页 |
| 6.2 实验方法 | 第66-67页 |
| 6.3 结果与讨论 | 第67-76页 |
| 6.3.1 HfO_2包覆的Co/Pt多层膜反常霍尔效应热稳定性的研究 | 第67-71页 |
| 6.3.2 Co/HfO_2和HfO_2/Co异质界面对Co/Pt多层膜反常霍尔效应热稳定性的影响 | 第71-76页 |
| 6.4 小结 | 第76-77页 |
| 7 缓冲层对Hf/CoFeB/MgO多层膜反常霍尔效应影响的研究 | 第77-83页 |
| 7.1 引言 | 第77-78页 |
| 7.2 实验方法 | 第78页 |
| 7.3 结果与讨论 | 第78-82页 |
| 7.4 小结 | 第82-83页 |
| 8 结论 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-99页 |
| 作者简历及在学研究成果 | 第99-105页 |
| 学位论文数据集 | 第105页 |
