铝硅二元体系有源光纤的制备与激光稳定性研究
| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 引言 | 第10-12页 |
| 1 掺镱双包层光纤激光器 | 第12-24页 |
| 1.1 镱离子的光谱特性 | 第12-13页 |
| 1.2 双包层光纤 | 第13-15页 |
| 1.3 包层泵浦耦合技术 | 第15-22页 |
| 1.3.1 端面泵浦耦合 | 第15-17页 |
| 1.3.2 侧面泵浦耦合 | 第17-22页 |
| 1.4 光纤激光器基本工作原理 | 第22-24页 |
| 2 镱掺杂双包层光纤的制备工艺 | 第24-36页 |
| 2.1 掺杂制备工艺 | 第25-30页 |
| 2.1.1 原位溶液掺杂法 | 第25-26页 |
| 2.1.2 DND稀土掺杂法 | 第26-27页 |
| 2.1.3 ALD稀土掺杂法 | 第27-28页 |
| 2.1.4 高温气相掺杂法 | 第28-29页 |
| 2.1.5 溶胶凝胶法 | 第29-30页 |
| 2.2 CDS+MCVD制备工艺 | 第30-33页 |
| 2.2.1 CDS+MCVD工作过程概述 | 第30-31页 |
| 2.2.2 CDS+MCVD制备能力分析 | 第31-33页 |
| 2.3 光纤的拉制 | 第33-36页 |
| 3 高功率光纤激光材料测试 | 第36-52页 |
| 3.1 光纤的性能表征 | 第36-39页 |
| 3.1.1 预制棒折射率分布测试 | 第36-37页 |
| 3.1.2 光纤截面元素分析测试 | 第37-38页 |
| 3.1.3 光纤折射率分布测试 | 第38-39页 |
| 3.2 光纤激光测试 | 第39-45页 |
| 3.2.1 操作工艺 | 第39-42页 |
| 3.2.2 光纤激光性能测试 | 第42-45页 |
| 3.3 高功率光纤激光测试系统 | 第45-48页 |
| 3.4 高功率光纤激光器关键技术 | 第48-52页 |
| 4 高功率光纤激光器的稳定性研究 | 第52-64页 |
| 4.1 光暗化效应 | 第52-54页 |
| 4.1.1 形成原因 | 第53-54页 |
| 4.1.2 解决方案 | 第54页 |
| 4.2 模式不稳定性 | 第54-56页 |
| 4.2.1 形成原因 | 第55页 |
| 4.2.2 解决方案 | 第55-56页 |
| 4.3 有源光纤的制备及激光性能测试 | 第56-59页 |
| 4.4 光纤的激光稳定性测试分析 | 第59-61页 |
| 4.5 高性能光纤制备技术发展 | 第61-64页 |
| 总结和展望 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-76页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第76-77页 |
