摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第12-26页 |
1.1 概述 | 第12页 |
1.2 复合电沉积研究概况 | 第12-20页 |
1.2.1 国内外复合电沉积研究现状 | 第13-15页 |
1.2.2 复合电沉积的影响因素 | 第15-17页 |
1.2.3 描述复合电沉积过程的几个模型 | 第17-20页 |
1.2.4 并联吸附理论 | 第20页 |
1.3 本课题研究方法 | 第20-24页 |
1.3.1 流场测试技术简介 | 第20-23页 |
1.3.2 粒子图像测速技术的特点 | 第23页 |
1.3.3 流场数值模拟方法 | 第23-24页 |
1.4 本课题的研究背景和意义 | 第24页 |
1.5 本课题研究内容 | 第24-26页 |
第2章 实验装置及实验方法 | 第26-42页 |
2.1 实验装置 | 第26-28页 |
2.2 测试装置与实验方法 | 第28-33页 |
2.2.1 PIV实验系统组成 | 第28-31页 |
2.2.2 PIV测速原理 | 第31-33页 |
2.2.3 脉冲时间间隔的确定 | 第33页 |
2.3 实验工艺的选择 | 第33-38页 |
2.3.1 Zn-SiO_2复合电沉积工艺的选择 | 第33-34页 |
2.3.2 相关参数的实验测定 | 第34-35页 |
2.3.3 PIV流场测试方案 | 第35-38页 |
2.4 PIV测量步骤 | 第38-40页 |
2.5 本章小结 | 第40-42页 |
第3章 PIV测量及结果分析 | 第42-62页 |
3.1 试验台的建立 | 第42页 |
3.2 实验方案的确定 | 第42-45页 |
3.2.1 螺旋桨搅拌实验方案的确定 | 第42-44页 |
3.2.2 空气搅拌实验方案的确定 | 第44页 |
3.2.3 镀液循环搅拌实验方案的确定 | 第44-45页 |
3.3 PIV测量参数的确定 | 第45-46页 |
3.3.1 测量断面的选取 | 第45-46页 |
3.3.2 激光脉冲时间间隔的确定 | 第46页 |
3.4 转速对流场流动情况的影响 | 第46-59页 |
3.4.1 电流大小对流场的影响 | 第46-48页 |
3.4.2 螺旋桨搅拌对流场的影响 | 第48-57页 |
3.4.3 空气搅拌对流场的影响 | 第57页 |
3.4.4 镀液循环搅拌对流场的影响 | 第57-59页 |
3.5 本章小结 | 第59-62页 |
第4章 数值模拟及结果分析 | 第62-74页 |
4.1 流场数值模拟总体方案 | 第62页 |
4.2 流场数值模拟方法及技术处理思路 | 第62-68页 |
4.2.1 不可压缩流体N-S方程 | 第62-64页 |
4.2.2 多相流模型的选择 | 第64-68页 |
4.2.3 求解算法的选择 | 第68页 |
4.3 网格划分与边界条件设定 | 第68-70页 |
4.3.1 网格的划分 | 第69页 |
4.3.2 边界条件的设定 | 第69-70页 |
4.4 流场数值模拟结果与PIV实验结果比对 | 第70-73页 |
4.5 本章小结 | 第73-74页 |
第5章 电解液流动特性分析及Zn-SiO_2复合电沉积的控制步骤 | 第74-96页 |
5.1 电场强度对电解液流动情况的影响 | 第74-75页 |
5.1.1 不加搅拌外力作用下电场强度对电解液流动情况的影响 | 第74页 |
5.1.2 在搅拌外力作用下电场强度对电解液流动情况的影响 | 第74-75页 |
5.2 不同搅拌方式对电解液流动情况的影响 | 第75-86页 |
5.2.1 螺旋桨搅拌对电解液流动情况的影响 | 第75-84页 |
5.2.2 空气搅拌 | 第84-85页 |
5.2.3 镀液循环 | 第85-86页 |
5.3 分型维数 | 第86-91页 |
5.3.1 分形维数的概念和作用 | 第86页 |
5.3.2 分形维数的计算方法 | 第86-87页 |
5.3.3 分形维数的计算结果及流场均匀性分析 | 第87-91页 |
5.4 所得镀层性能测试 | 第91-94页 |
5.4.1 盐雾试验 | 第91-92页 |
5.4.2 镀层中SiO_2含量 | 第92页 |
5.4.3 镀层厚度 | 第92-93页 |
5.4.4 镀层硬度 | 第93-94页 |
5.5 本章小结 | 第94-96页 |
第6章 结论与展望 | 第96-98页 |
结论 | 第96页 |
展望 | 第96-98页 |
致谢 | 第98-100页 |
参考文献 | 第100-104页 |
附录A 攻读硕士期间发表论文及专利目录 | 第104页 |