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常见掺杂对GeO2及GR/Ag3PO4光催化性能影响的第一性原理研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第12-32页
    1.1 引言第12-13页
    1.2 半导体光催化材料概述第13-15页
    1.3 半导体光催化材料掺杂国内外研究现状第15-23页
        1.3.1 半导体光催化材料掺杂起源第15-17页
        1.3.2 半导体光催化材料掺杂分类第17-23页
    1.4 第一性原理计算第23-30页
        1.4.1 第一性原理计算的基础理论和研究方法第24-29页
        1.4.2 第一性原理计算中半导体掺杂形式第29-30页
    1.5 课题选择的意义和研究内容第30-32页
第2章 对N掺杂GeO_2的光催化活性起源的第一性原理研究第32-45页
    2.1 引言第32-33页
    2.2 理论模型和计算细节第33-34页
    2.3 计算分析结果与讨论第34-43页
        2.3.1 结构性质和缺陷形成能第34-36页
        2.3.2 马利肯布居数以及化学键分析第36-39页
        2.3.3 电子结构第39-42页
        2.3.4 光学性质第42-43页
    2.4 本章小结第43-45页
第3章 对掺杂的石墨烯与Ag_3PO_4的复合材料带隙附近的电子结构、界面电荷转移以及光催化性能的研究第45-59页
    3.1 引言第45-46页
    3.2 理论模型和计算细节第46-47页
    3.3 计算结果分析及讨论第47-57页
        3.3.1 几何结构和形成能第47-49页
        3.3.2 态密度分析第49-51页
        3.3.3 马利肯布居数,电荷转移和机理分析第51-56页
        3.3.4 光学性质第56-57页
    3.4 本章小结第57-59页
结论与展望第59-61页
参考文献第61-74页
附录A 攻读硕士学位期间发表论文第74-75页
致谢第75页

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