摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第14-35页 |
1.1 论文的背景及研究目的和意义 | 第14-16页 |
1.2 氮化硼的分类、结构与基本性质 | 第16-17页 |
1.2.1 氮化硼的分类和结构 | 第16-17页 |
1.2.2 氮化硼的基本性质 | 第17页 |
1.3 氮化硼纳米材料和薄膜材料的研究现状 | 第17-25页 |
1.3.1 一维氮化硼纳米材料 | 第18-20页 |
1.3.2 二维氮化硼纳米片 | 第20-22页 |
1.3.3 三维氮化硼纳米材料 | 第22-24页 |
1.3.4 氮化硼薄膜材料 | 第24-25页 |
1.4 氮化硼纳米和薄膜材料的性质与应用 | 第25-27页 |
1.5 硼碳氮的分类、结构与基本性质 | 第27-28页 |
1.5.1 硼碳氮的分类和结构 | 第27-28页 |
1.5.2 硼碳氮的基本性质 | 第28页 |
1.6 硼碳氮纳米材料的研究现状 | 第28-31页 |
1.6.1 一维硼碳氮纳米材料 | 第29-30页 |
1.6.2 二维硼碳氮纳米材料 | 第30-31页 |
1.7 硼碳氮纳米材料的性质与应用 | 第31-33页 |
1.8 本文的研究内容 | 第33-35页 |
第2章 实验方法 | 第35-42页 |
2.1 实验原料与设备 | 第35-36页 |
2.1.1 实验原料 | 第35-36页 |
2.1.2 实验设备 | 第36页 |
2.2 材料制备方法 | 第36-37页 |
2.2.1 催化热蒸发法 | 第36页 |
2.2.2 催化等离子体化学气相沉积法 | 第36-37页 |
2.3 材料表征方法 | 第37-39页 |
2.3.1 形貌及结构的表征方法 | 第37-38页 |
2.3.2 性能测试方法 | 第38页 |
2.3.3 比表面积(BET)测试方法 | 第38-39页 |
2.4 材料吸附性测试方法 | 第39-40页 |
2.4.1 重量法 | 第39页 |
2.4.2 浓度法 | 第39-40页 |
2.5 材料电化学测试方法 | 第40-42页 |
2.5.1 循环伏安法 | 第40-41页 |
2.5.2 旋转盘电极法 | 第41页 |
2.5.3 电流-时间(j-t)法 | 第41-42页 |
第3章 氮化硼纳米片球的制备及其吸附性能研究 | 第42-65页 |
3.1 引言 | 第42页 |
3.2 氮化硼纳米片球的制备工艺 | 第42-43页 |
3.2.1 催化剂的制备 | 第42-43页 |
3.2.2 氮化硼纳米片球的制备 | 第43页 |
3.3 反应条件对氮化硼纳米片球结构形成的影响 | 第43-48页 |
3.3.1 催化剂种类的影响 | 第45页 |
3.3.2 反应温度的影响 | 第45-46页 |
3.3.3 B粉与催化剂质量配比的影响 | 第46-48页 |
3.4 优化条件下制备的氮化硼纳米片球的结构表征 | 第48-54页 |
3.5 固态B粉的催化热蒸发机制 | 第54-55页 |
3.6 氮化硼纳米片球的吸附性能 | 第55-64页 |
3.6.1 氮化硼纳米片球的比表面积分析 | 第55-56页 |
3.6.2 吸附性能测试工艺 | 第56-58页 |
3.6.3 吸附性能测试结果与讨论 | 第58-64页 |
3.7 本章小结 | 第64-65页 |
第4章 硼碳氮纳米片球及其载铂催化剂的制备与性能研究 | 第65-88页 |
4.1 引言 | 第65-66页 |
4.2 硼碳氮纳米片球的制备工艺 | 第66页 |
4.2.1 催化剂的制备 | 第66页 |
4.2.2 硼碳氮纳米片球的生长 | 第66页 |
4.3 反应条件对硼碳氮纳米片球结构形成的影响 | 第66-71页 |
4.3.1 CH_4流量的影响 | 第66-68页 |
4.3.2 反应温度的影响 | 第68-69页 |
4.3.3 B粉与催化剂质量配比的影响 | 第69-71页 |
4.4 优化条件下制备的硼碳氮纳米片球的结构表征 | 第71-78页 |
4.5 硼碳氮纳米片球载铂催化剂的制备及结构表征 | 第78-82页 |
4.5.1 硼碳氮纳米片球载铂催化剂的制备工艺 | 第78页 |
4.5.2 硼碳氮纳米片球载铂催化剂的结构表征 | 第78-82页 |
4.6 硼碳氮纳米片球载铂催化剂的电催化性能 | 第82-86页 |
4.6.1 硼碳氮纳米片球载铂催化剂的电化学测试工艺 | 第82页 |
4.6.2 硼碳氮纳米片球载铂催化剂的电化学活性 | 第82-84页 |
4.6.3 硼碳氮纳米片球载铂催化剂的ORR动力学评估 | 第84-85页 |
4.6.4 硼碳氮纳米片球载铂催化剂的稳定性 | 第85-86页 |
4.7 本章小结 | 第86-88页 |
第5章 高结晶氮化硼薄膜的催化生长 | 第88-109页 |
5.1 引言 | 第88页 |
5.2 氮化硼薄膜的制备工艺 | 第88-89页 |
5.2.1 催化剂薄膜的制备 | 第88-89页 |
5.2.2 BN薄膜的生长和退火处理 | 第89页 |
5.3 反应条件对氮化硼薄膜生长的影响 | 第89-101页 |
5.3.1 催化剂对氮化硼薄膜的影响 | 第89-92页 |
5.3.2 BF_3气体流量对氮化硼薄膜的影响 | 第92-94页 |
5.3.3 H_2气体流量对氮化硼薄膜的影响 | 第94-96页 |
5.3.4 工作气压对氮化硼薄膜的影响 | 第96-99页 |
5.3.5 反应功率对氮化硼薄膜的影响 | 第99-101页 |
5.4 退火处理对氮化硼薄膜结晶度的影响 | 第101-105页 |
5.5 氮化硼薄膜的催化生长机制 | 第105-106页 |
5.6 氮化硼薄膜的发光性质 | 第106-107页 |
5.7 本章小结 | 第107-109页 |
结论 | 第109-110页 |
论文创新点 | 第110页 |
研究展望 | 第110-112页 |
参考文献 | 第112-127页 |
攻读博士学位期间发表的论文及其他成果 | 第127-129页 |
致谢 | 第129-130页 |
个人简历 | 第130页 |