摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第12-25页 |
1.1 研究背景 | 第12页 |
1.2 光催化技术 | 第12-17页 |
1.2.1 光催化技术简介 | 第12-13页 |
1.2.2 半导体光催化基本原理 | 第13-14页 |
1.2.3 影响光催化性能的主要因素 | 第14-17页 |
1.3 半导体光催化剂研究 | 第17-19页 |
1.3.1 传统光催化剂的改性 | 第17-19页 |
1.3.2 新型可见光催化剂的开发 | 第19页 |
1.4 铋系半导体化合物 | 第19-21页 |
1.5 钼酸铋可见光催化剂及其改性研究 | 第21-23页 |
1.6 选题目的和研究内容 | 第23-25页 |
1.6.1 选题目的 | 第23页 |
1.6.2 研究内容 | 第23-25页 |
第二章 实验材料与分析方法 | 第25-31页 |
2.1 实验试剂与仪器 | 第25-26页 |
2.1.1 主要化学试剂 | 第25-26页 |
2.1.2 主要实验仪器 | 第26页 |
2.2 表征方法 | 第26-28页 |
2.2.1 X射线衍射分析(XRD) | 第26-27页 |
2.2.2 扫描电镜分析(SEM) | 第27页 |
2.2.3 透射电镜分析(TEM) | 第27页 |
2.2.4 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第27页 |
2.2.5 紫外-可见漫发射光谱分析(UV-Vis) | 第27-28页 |
2.2.6 光致发光谱分析(PL) | 第28页 |
2.2.7 比表面积测试分析(BET) | 第28页 |
2.2.8 交流阻抗分析 | 第28页 |
2.3 光催化性能评价 | 第28-29页 |
2.3.1 光催化反应装置 | 第28-29页 |
2.3.2 光催化降解实验 | 第29页 |
2.4 光催化机理探讨 | 第29-31页 |
第三章 BiOBr/Bi_2MoO_6复合异质结光催化剂的制备及其可见光催化性能 | 第31-44页 |
3.1 引言 | 第31页 |
3.2 BiOBr/Bi_2MoO_6复合异质结光催化剂的制备 | 第31-32页 |
3.2.1 Bi_2MoO_6的制备 | 第31-32页 |
3.2.2 BiOBr的制备 | 第32页 |
3.2.3 BiOBr/Bi_2MoO_6的制备 | 第32页 |
3.3 结果与讨论 | 第32-42页 |
3.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第32-33页 |
3.3.2 扫描电镜分析(SEM) | 第33-35页 |
3.3.3 透射电镜分析(TEM) | 第35页 |
3.3.4 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第35-37页 |
3.3.5 紫外-可见漫反射光谱分析(UV-Vis) | 第37页 |
3.3.6 荧光光谱分析(PL) | 第37-38页 |
3.3.7 光催化效果评价 | 第38-39页 |
3.3.8 光催化剂稳定性分析 | 第39-40页 |
3.3.9 光催化剂机理探讨 | 第40-42页 |
3.4 小结 | 第42-44页 |
第四章 Bi_2MoO_6-MIL-100(Fe)复合光催化剂的制备及其可见光催化性能 | 第44-61页 |
4.1 引言 | 第44-45页 |
4.2 Bi_2MoO_6-MIL-100(Fe)复合光催化剂的制备 | 第45-46页 |
4.2.1 MIL-100(Fe)的制备 | 第45页 |
4.2.2 Bi_2MoO_6的制备 | 第45页 |
4.2.3 Bi_2MoO_6-MIL-100(Fe)的制备 | 第45-46页 |
4.3 结果与讨论 | 第46-60页 |
4.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第46-47页 |
4.3.2 扫描电镜分析(SEM) | 第47-48页 |
4.3.3 透射电镜分析(TEM) | 第48-49页 |
4.3.4 比表面积分析(BET) | 第49-50页 |
4.3.5 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第50-52页 |
4.3.6 紫外-可见漫反射光谱分析(UV-Vis) | 第52-53页 |
4.3.7 光致发光光谱分析(PL) | 第53-54页 |
4.3.8 光催化效果评价 | 第54-56页 |
4.3.9 光催化剂稳定性分析 | 第56-57页 |
4.3.10 光催化剂机理探讨 | 第57-60页 |
4.4 小结 | 第60-61页 |
第五章 PANI/Bi_2MoO_6复合光催化剂的制备及其可见光催化性能 | 第61-76页 |
5.1 引言 | 第61-62页 |
5.2 Bi_2MoO_6复合光催化剂的制备 | 第62-63页 |
5.2.1 PANI的制备 | 第62页 |
5.2.2 Bi_2MoO_6的制备 | 第62页 |
5.2.3 PANI/Bi_2MoO_6的制备 | 第62-63页 |
5.3 结果与讨论 | 第63-74页 |
5.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第63页 |
5.3.2 扫描电镜分析(SEM) | 第63-65页 |
5.3.3 透射电镜分析(TEM) | 第65页 |
5.3.4 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第65-67页 |
5.3.5 比表面积分析(BET) | 第67-68页 |
5.3.6 紫外-可见漫反射光谱分析(UV-Vis) | 第68页 |
5.3.7 荧光光谱分析(PL) | 第68-69页 |
5.3.8 交流阻抗分析 | 第69-70页 |
5.3.9 光催化效果评价 | 第70-72页 |
5.3.10 光催化剂稳定性分析 | 第72页 |
5.3.11 光催化剂机理探讨 | 第72-74页 |
5.4 小结 | 第74-76页 |
结论与展望 | 第76-78页 |
参考文献 | 第78-90页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第90-91页 |
致谢 | 第91-92页 |
附件 | 第92页 |