面向曲面基底微光学元件加工的纳米压印设备的研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 课题研究的背景和意义 | 第8页 |
| 1.2 国内外相关研究的发展现状 | 第8-14页 |
| 1.2.1 纳米压印工艺的发展 | 第8-12页 |
| 1.2.2 压印设备 | 第12-14页 |
| 1.3 本文的主要研究内容 | 第14-16页 |
| 第2章 纳米压印设备的总体方案与机械设计 | 第16-29页 |
| 2.1 纳米压印设备的总体性能指标 | 第16页 |
| 2.2 压印过程及总体结构设计 | 第16-25页 |
| 2.2.1 压印过程 | 第16-18页 |
| 2.2.2 机械结构总体设计 | 第18-21页 |
| 2.2.3 柔性压印头的结构设计 | 第21-22页 |
| 2.2.4 柔性微结构压模的设计 | 第22-24页 |
| 2.2.5 承载台的结构设计 | 第24-25页 |
| 2.3 紫外固化光源与压印胶 | 第25-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章 纳米压印系统的硬件设计 | 第29-48页 |
| 3.1 硬件总体结构设计 | 第29-30页 |
| 3.2 温度控制系统硬件设计 | 第30-35页 |
| 3.2.1 温度控制系统的总体方案 | 第30页 |
| 3.2.2 温度控制系统器件的选择 | 第30-35页 |
| 3.3 压力控制系统硬件设计 | 第35-46页 |
| 3.3.1 气动伺服控制系统基本原理 | 第35-36页 |
| 3.3.2 压力控制系统硬件方案设计 | 第36-37页 |
| 3.3.3 基于电磁阀的伺服控制系统分析 | 第37-40页 |
| 3.3.4 PWM 气动控制方式 | 第40-42页 |
| 3.3.5 压力控制系统元件选取 | 第42-46页 |
| 3.4 紫外曝光系统硬件设计 | 第46-47页 |
| 3.5 本章小结 | 第47-48页 |
| 第4章 纳米压印系统的软件设计 | 第48-61页 |
| 4.1 控制系统软件主体设计 | 第48-49页 |
| 4.2 上位机软件设计 | 第49-53页 |
| 4.3 温度控制系统软件设计 | 第53-58页 |
| 4.3.1 PID 控制原理 | 第54页 |
| 4.3.2 温度控制位置式 PID 控制算法 | 第54-56页 |
| 4.3.3 温度处理的拟合算法 | 第56-58页 |
| 4.4 压力控制系统的软件设计 | 第58-60页 |
| 4.5 本章小结 | 第60-61页 |
| 第5章 实验结果及分析 | 第61-71页 |
| 5.1 温控系统性能测试 | 第61-64页 |
| 5.1.1 升温速度实验 | 第61-63页 |
| 5.1.2 稳态温度控制精度实验 | 第63-64页 |
| 5.2 压力控制实验 | 第64-66页 |
| 5.2.1 压力均匀性实验 | 第64-65页 |
| 5.2.2 压力控制稳定性实验 | 第65-66页 |
| 5.3 微结构图案复制实验 | 第66-70页 |
| 5.3.1 热压印实验 | 第66-68页 |
| 5.3.2 紫外纳米压印实验 | 第68-70页 |
| 5.4 本章小结 | 第70-71页 |
| 结论 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
