| 摘要 | 第7-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 引言 | 第10-13页 |
| 1.1.1 金属氧化物简介 | 第10-11页 |
| 1.1.2 纳米金属氧化物 | 第11-12页 |
| 1.1.3 纳米金属氧化物的制备 | 第12-13页 |
| 1.1.4 纳米金属氧化物半导体的应用 | 第13页 |
| 1.2 氧化镍(NiO) | 第13-15页 |
| 1.2.1 NiO材料的基本特性 | 第13-14页 |
| 1.2.2 研究现状及电化学应用 | 第14-15页 |
| 1.3 二氧化钛(TiO_2) | 第15-20页 |
| 1.3.1 TiO_2 材料的基本特性 | 第15-17页 |
| 1.3.2 研究现状及材料应用 | 第17-20页 |
| 1.4 选题意义及研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 无模板法合成骸晶状NiO八面体及表面凹陷对电化学性能的影响 | 第22-34页 |
| 2.1 引言 | 第22-23页 |
| 2.2 实验部分 | 第23-24页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第23页 |
| 2.2.2 仪器表征 | 第23页 |
| 2.2.3 骸晶氧化镍八面体的制备 | 第23-24页 |
| 2.2.4 电化学性能测试 | 第24页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第24-29页 |
| 2.3.1 物相与结构分析 | 第24-27页 |
| 2.3.2 NiO材料电化学性能分析 | 第27-29页 |
| 2.4 骸晶NiO八面体形成机理 | 第29-33页 |
| 2.5 本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 大比表面积高结晶度TiO_2纳米球制氢和光催化活性研究 | 第34-44页 |
| 3.1 引言 | 第34-35页 |
| 3.2 实验部分 | 第35-36页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第35页 |
| 3.2.2 仪器表征 | 第35页 |
| 3.2.3 TiO_2 纳米球的制备 | 第35-36页 |
| 3.2.4 TiO_2 的光催化性能测试 | 第36页 |
| 3.2.5 光催化产H_2 性能测试 | 第36页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第36-41页 |
| 3.3.1 物相与结构分析 | 第36-39页 |
| 3.3.7 光催化性能分析 | 第39-41页 |
| 3.4 TiO_2 纳米球的形成机理 | 第41-42页 |
| 3.5 本章小结 | 第42-44页 |
| 第4章 P-N异质结NiO-TiO_2材料的制备及光催化性能研究 | 第44-50页 |
| 4.1 引言 | 第44页 |
| 4.2 实验部分 | 第44-46页 |
| 4.2.1 实验试剂 | 第44-45页 |
| 4.2.2 仪器表征 | 第45页 |
| 4.2.3 P-N异质结TiO_2-NiO的制备 | 第45页 |
| 4.2.4 光催化反应测试 | 第45-46页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第46-47页 |
| 4.4 光催化性能测试 | 第47-48页 |
| 4.5 TiO_2-NiO异质结光催化机理 | 第48-49页 |
| 4.6 结论 | 第49-50页 |
| 第5章 论文总结 | 第50-52页 |
| 5.1 主要结论 | 第50-51页 |
| 5.2 有待于进一步研究 | 第51页 |
| 5.3 创新点 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-68页 |
| 致谢 | 第68-70页 |
| 在学期间主要科研成果 | 第70页 |
