| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 高纯铝 | 第10-12页 |
| 1.1.1 高纯铝分类 | 第10-11页 |
| 1.1.2 高纯铝应用 | 第11-12页 |
| 1.2 高纯铝的研究现状 | 第12-13页 |
| 1.3 高纯铝半连续铸造 | 第13-18页 |
| 1.3.1 高纯铝DC铸造技术 | 第13-14页 |
| 1.3.2 电磁场在铸造过程中的应用 | 第14-18页 |
| 1.4 高纯铝半连续铸造过程的数值模拟 | 第18-21页 |
| 1.4.1 电磁场的数值模拟 | 第18-19页 |
| 1.4.2 温度场和流场的数值模拟 | 第19-21页 |
| 1.5 本文研究目的和内容 | 第21-24页 |
| 第2章 高纯铝DC和LFEC过程中的数学模型 | 第24-38页 |
| 2.1 LFEC过程中电磁场的控制方程 | 第24-25页 |
| 2.2 DC和LFEC过程中流场与温度场的控制方程 | 第25-26页 |
| 2.3 DC和LFEC过程中凝固的数学模型 | 第26-28页 |
| 2.4 数学模型的假设与简化 | 第28-29页 |
| 2.5 边界条件 | 第29-35页 |
| 2.5.1 电磁场计算的边界条件 | 第29-30页 |
| 2.5.2 流场与温度场的边界条件 | 第30-35页 |
| 2.6 数值模拟的过程与方法 | 第35-38页 |
| 第3章 半连续铸造过程数学模型的实现 | 第38-44页 |
| 3.1 实验材料的物性 | 第38-39页 |
| 3.2 边界条件 | 第39-41页 |
| 3.3 数值模拟的实现 | 第41-44页 |
| 第4章 铸锭半连续铸造过程中宏观物理场的数值模拟 | 第44-78页 |
| 4.1 数值模拟的实验验证 | 第44-46页 |
| 4.1.1 磁场的实验验证 | 第44-45页 |
| 4.1.2 温度场的实验验证 | 第45-46页 |
| 4.2 单双线圈对LFEC过程中宏观物理场的影响 | 第46-54页 |
| 4.2.1 单双线圈对磁场的影响 | 第47-51页 |
| 4.2.2 单双线圈对铸造过程中溶体流动的影响 | 第51-53页 |
| 4.2.3 单双线圈对铸造过程中温度场的影响 | 第53-54页 |
| 4.3 低频电磁场对LFEC过程中宏观物理场的影响 | 第54-58页 |
| 4.3.1 低频电磁场的计算结果 | 第54页 |
| 4.3.2 低频电磁场对铸造过程中溶体流动的影响 | 第54-55页 |
| 4.3.3 低频电磁场对铸造过程中溶体温度场的影响 | 第55-57页 |
| 4.3.4 低频电磁场对凝固前沿熔体流动速度的影响 | 第57-58页 |
| 4.4 LFEC过程中电磁参数对宏观物理场的影响 | 第58-72页 |
| 4.4.1 电流强度对铸造过程宏观物理场的影响 | 第58-65页 |
| 4.4.2 电流频率对宏观物理场的影响 | 第65-72页 |
| 4.5 铸造条件对LFEC过程中宏观物理场的影响 | 第72-77页 |
| 4.5.1 浇铸温度对宏观物理场的影响 | 第72-74页 |
| 4.5.2 铸造速度对宏观物理场的影响 | 第74-77页 |
| 4.6 金相组织分析 | 第77-78页 |
| 第5章 结论 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-86页 |
| 致谢 | 第86页 |
