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熔石英表面杂质粒子的吸附机制研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5-6页
第一章 绪论第9-14页
    1.1 熔石英表面的研究背景第9-10页
    1.2 国内外研究现状第10-12页
    1.3 本课题的研究意义第12页
    1.4 本文的结构安排第12-14页
第二章 理论基础与计算方法第14-25页
    2.1 第一性原理的基本理论第14-20页
        2.1.1 薛定谔方程第14-15页
        2.1.2 绝热近似第15-16页
        2.1.3 密度泛函理论和Kohn-Sham方程第16-17页
        2.1.4 交换关联势第17-18页
        2.1.5 基组选取第18-19页
        2.1.6 赝势方法第19-20页
    2.2 GW近似第20-22页
    2.3 分子动力学理论第22-23页
        2.3.1 经典分子动力学第22页
        2.3.2 从头算分子动力学第22-23页
    2.4 模拟及计算方法介绍第23-24页
    2.5 本章小结第24-25页
第三章 熔石英表面及缺陷的构造第25-28页
    3.1 表面构造第25页
    3.2 表面统计分析第25-26页
    3.3 表面缺陷构造第26-27页
    3.4 本章总结第27-28页
第四章 含E'缺陷的表面与卤素的反应第28-34页
    4.1 平衡构型第28-29页
    4.2 吸附能分析第29-30页
    4.3 电子态密度分析第30-31页
    4.4 差分电荷密度分析第31-32页
    4.5 bader电荷分析第32-33页
    4.6 本章小结第33-34页
第五章 含NBOHC缺陷的表面与卤素的反应第34-39页
    5.1 平衡构型第34-35页
    5.2 吸附能分析第35页
    5.3 态密度分析第35-36页
    5.4 差分电荷密度分析第36-37页
    5.5 bader电荷分析第37-38页
    5.6 本章总结第38-39页
第六章 总结与展望第39-41页
    6.1 总结第39页
    6.2 展望第39-41页
参考文献第41-47页
致谢第47-48页
攻读硕士期间发表论文情况第48页

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